化学法的退镀液配方
上一篇 / 下一篇 2012-10-06 12:17:13 / 精华(3)/ 置顶(3)/ 个人分类:精细化工
- 文件版本: V1.0
- 开发商: 本站原创
- 文件来源: 本地
- 界面语言: 简体中文
- 授权方式: 免费
- 运行平台: Win9X/Win2000/WinXP
禾川化工专业从事退镀液成分分析配方分析,成分分析,配方研制,为退镀液相关企业提供整套技术解决方案一站式服务。
化学法的退镀液配方
1. 背景
镀件在电镀或化学镀过程中,由于各种原因造成镀层质量不好,出现各种缺陷,如结晶粗糙或不均、起泡、色泽不好、发暗,有些镀层发现有裂纹、针孔或斑点等。当镀层存在缺陷时,应该将镀层退除、重新再镀,以获得良好的镀层质量。常用的镀层退除方法有化学退除法、电解退除法、机械退除法。
2.化学法退镀简介
2.1 化学法退镀概念
化学法退镀机理比较成熟。主要是通过强氧化剂或酸来溶解度层金属,对于Cu/Ni/Cr镀层的退镀,化学法一般分步进行,先用稀盐酸将铬层溶解,然后用浓硝酸氧化法将镍和铜溶解。
传统的化学法脱除Cu/Ni镀层主要有两类:浓硝酸( 加氯化钠) 氧化法和硝基化合物( 防染盐)法。浓硝酸法成本较低,退除速率快,但产生大量的氮氧化物气体,而且容易导致基体金属过腐蚀;防染盐即间硝基苯磺酸钠,虽然对基体无腐蚀,但需高温退除,时间长,效率低; 而且若与剧毒物质氰化钠同时使用,操作不当,危害也很严重。
化学法退镀铬层,常用的是常温下与稀盐酸反应。但是由于挂具结构复杂,形状各异,即使退除镀层时不断搅拌,总有退除不干净的部位,尤其是一些凹坑、拐角处。
2.2.化学法退镀机理
化学法退镀机理比较成熟。主要是通过强氧化剂或酸来溶解镀层金属,对于Cu/Ni/Cr 镀层的退镀,化学法一般分步进行,先用稀盐酸将铬层溶解,然后用浓硝酸氧化法将镍和铜溶解,其反应机理文献中都有论述。为了防止铁基体的过腐蚀,通常引入六次甲基四胺、乙二胺、硫脲等作为缓蚀剂。
防染盐法的反应机理很复杂: 第一步是硝基(NO2)还原为亚硝基(NO),这一步通常是比较缓慢的,因为反应过程伴随着相当高的活化电位。第二步还原反应是迅速的,反应过程中伴随着较低的活化过电位,还原的过程是由亚硝基还原成羟胺基) NH2OH+ 。随后的步骤则取决于退镀液是酸性还是碱性 。
2.3 化学退镀液的组成
化学退镀液主要由氧化剂、络合剂、促溶剂、缓蚀剂和表面活性剂等组成。传统的混合硝酸法虽然退速快,毒性较低,但产生大量有害的NOx气体,俗称(黄龙),稍有不慎就会导致基体过腐蚀; 氰化法则存在污染严重的问题,其退除过程中产生的HCN气体不仅污染大气,还严重危害操作人员的健康,且氰化法退液中含CN- ,不经处理不允许排放,对高浓度氰化钠废液进行处理极其昂贵,且稍有疏忽,便会导致公害。
目前我国在S-防染剂(间硝基苯磺酸钠)为主要成分,加乙二胺、柠檬酸为辅助成分的额化学退镍方面,研究及应用较多,其主要原理是基于:2RNO2+3Ni+3H2O+9N2H-CH2-CH2-NH2 RNO=NR+3Ni(NH2-CH2-CH2-NH2)3+6OH-
其中,乙二胺不仅是镍的稳定络合剂,对基体铁也有良好的吸附缓释性,而柠檬酸(作为络合剂)的添加,可提高退镀速率。铁剂缓蚀剂多以有机胺类化合物为主,如:六次亚甲基四胺、亚硝基二丁胺、尿素、硫脲等,脂类的报道较少。
3. 应用案例
3.1 传统硝酸型化学退镀液
3.1.1锡镍合金退镀液配方:
组成 | 投料量 | 成分作用 |
硝酸(工业级) | 300~350mL/L | |
盐酸(工业级) | 15~20mL/L | |
六次亚甲基四胺 | 35~45g/L | 缓蚀剂 |
水 | 加至1L |
3.1.2 快速锡铅合金退镀液
组成 | 投料量 | 成分作用 |
氟化氢铵 | 150~220g/L | 腐蚀剂 |
过氧化氢 | 20~50g/L | 氧化剂 |
柠檬酸 | 30~45 /L | 络合剂 |
水 | 加至1L |
3.2除镍剂配方
目前的除镍剂主要由氧化剂、络合剂、促进剂、抑制剂和表面活性剂等组成。在除钢上镍层时,与碱性溶液联合使用;在除铜、黄铜上镍层时、与酸性溶液联合使用。但是除镍剂正在向中性溶液方向发展,因为后处理比较方便,这也是今后主要的研究方向。
3.2.1碱性除镍剂:
组成 | 投料量 | 成分作用 |
间硝基苯磺酸钠 | 55~70 g /L | 防染剂 |
氰化钠 | 120~180 g/L | / |
氢氧化钠 | 0~25 g/L | / |
水 | 加至1L | |
槽液温度: 60~80℃ |
3.2.2 胺型
组成 | 投料量 | 成分作用 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
硝基芳香族化合物 | 30~40g /L | 防染剂 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
NH4OH(28%) | 0.2~0.5g/L | / | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
(NH4)2
TAG:
清空Cookie -
联系我们 -
分析测试百科网 -
交流论坛 -
空间列表 -
站点存档 -
升级自己的空间
Powered by X-Space
3.0.2
© 2001-2007 Comsenz Inc.
|