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光学清洗剂配方分析
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下一篇 2012-12-04 13:19:03 / 天气: 晴朗/ 心情: 高兴/ 个人分类：清洗剂配方
光学清洗剂主要是以氟利昂 (Fll3) 为主体与其它有机溶剂的共沸物。主要适用于超声波清洗及其它装置,手工方法清洗等之用。其性能特点:该清洗剂溶解性能较强 ,与空气混合不产生爆炸, 不燃烧,无毒害;由于它的沸点温度低, 零件表面张力较小,因此湿润性好, 可以清洗形状复杂的零件;不导电并有优异的电介常数这种清洗剂是电子、光学、精密机械仪器等行业不可缺少的清洗剂。适用于金属、非金属材料粘接前的清洗和电子元器件焊接后的清洗, 特别适用于清洗极性油污脏物、松香助焊剂、塑料制品和印刷线路板、电子元器件手印及油脂脏物。
典型清洗剂配方如下：（仅供参考）
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组成 |
百分含量 |
成分作用 |
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脂肪醇聚氧乙烯醚 |
2％～8％ |
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烷基酚聚氧乙烯醚 |
2％～8％ |
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脂肪酸烷醇酰胺 |
3％～10％ |
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油酸 |
5％～25％ |
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三乙醇胺 |
10％～22％ |
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单乙醇胺 |
5％～18％ |
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烷基磺酸钠 |
0.5％～3％ |
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苯并三氮唑 |
0.01％～0．5％ |
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乙二胺四乙酸二钠 |
1％~ 2％ |
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水 |
余量 |
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