评论: 上海光机所研制出多路并行激光直写系统

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--[概述]-- 11月，中科院上海光学精密机械研究所周常河研究员课题组成功研制出多路激光直写装置。该装置采用405nm的蓝光激光光源，尼康0.9数值孔径的透镜，以及自动聚焦系统，实现了25路高精度并行激光直写，刻写光斑的线宽小于600nm。相比于传统激光直写系统，该装置在刻写速度和效率方面有了很大的提高，几十倍地缩短了激光直写时间，可以快速制作大尺寸、高精度衍射光学元件 ......