评论: 美国日立环球存储科技公司专家到理化所交流

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--[概述]-- 7月15日，应中科院低温工程学重点实验室低温材料及低温技术研究中心邀请，美国日立环球存储科技首席高级研发人员N. Shi博士到中科院理化技术研究所进行学术交流，并作了题为Technology Transfer-from Science to Product的学术报告。报告中，N. Shi博士介绍了目前最新的TB级硬盘垂直记录技术的理论 ......