供应E型电子枪

上一篇 / 下一篇  2010-11-04 15:42:39

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新型E型电子枪
                                                              

一.概述
   本蒸发源系坩埚由电机直接驱动、电子束偏转角为270º、用于蒸镀各种金属和非金属材料的磁偏转式E型电子束蒸发装置。
  用于真空镀膜过程中电子束蒸发镀膜。实际中广泛应用于:增透膜、眼镜镀膜、光纤光学、高反镜、热/冷反光镜、低漂移滤波器、带通滤波器等。
    电子束蒸发能够很好的控制薄膜厚度、控制薄膜的均匀性,增加镀膜的一致性和重复性,薄膜易于控制。

   主要特点:
  结构先进
  充分借鉴国内外先进的电子枪的优点,具有独特的水冷和密封结构,经多次长时间的实验证明,电子枪能够在很大的电子束流下长期稳定工作。
  可在高温环境下长期可靠工作
  在通常镀膜工艺中,工件需加热至很高温度,整个真空室内温度很高,而本电子枪良好的冷却系统能保证电子枪在 400℃的高温环境下长期正常工作。 
  完全适用于反应气体
  在反应沉积镀膜过程中,通常需要用氧气或氮气等与蒸发的膜料进行反应沉积所需薄膜,在此过程中增加反应气体的活性和能量,对形成高质量薄膜至关重要。
    本电子枪可以在完全通入反应气体下正常工作。
  安装简便、维护简单运行成本低
  本电子枪的安装非常简单,耗材只是灯丝及磁件,日常维护工作主要是更换灯丝及磁件。
  操作简单
  电子枪的操作简单,通过调节电子枪的电子束束流以及扫描幅度即可使电子枪稳定工作(手动及全自动)。控制面板上能直接观察到灯丝电压、电流。
 
二、主要技术参数

电子束偏转角270o阳极电压6KV-15KV
阴极加热电源AC 3V+3V, 60A 可调束流

间冷坩埚0~500mA,直冷坩埚0~1A

坩埚容量(标准型)

4孔间冷4×17mL,4孔直冷 4×22mL,环形直冷 85mL

磁场电源

X偏转电流 ±2A可调,扫描频率10~250Hz;Y偏转电流 ±2A可调,扫描频率10~250Hz

启动真空度6.7×10-3Pa坩埚定位(四孔坩埚)电控自动或手动点控
坩埚冷却水

进水温度≤25℃,进水压力≥0.2MPa,水流量≥8L/min

电子枪体接地电阻≤4Ω

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  • 更新时间: 2010-11-04

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