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1200℃双管滑动式四通道混气CVD系统

参考报价: 面议 型号: OTF-1200X-4-C4LV
品牌: 沈阳科晶 产地: 辽宁
关注度: 776 信息完整度:
样本: 典型用户: 暂无
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AI问答
可以做哪些实验,检测什么? 可以用哪些耗材和试剂?

1200℃双管滑动式四通道混气CVD系统OTF-1200X-4-C4LV是专门为在金属箔表面生长薄膜而设计的,特别是应用在新一代能源——柔性金属箔电极方面的研究。

 

 

产品型号

1200℃双管滑动式四通道混气CVD系统OTF-1200X-4-C4LV

安装条件

本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水:设备配有自循环冷却水机(加注纯净水或者去离子水)

2、电:AC380V 50Hz(63A空气开关),必须有良好接地

3、气:设备腔室内需充注氩气(纯度99.99%以上),需自备氩气气瓶(自带?6mm双卡套接头)

4、工作台:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上

5、通风装置:需要

主要特点

1、采用高纯氧化铝保温材料,保证了极好的温度均匀性。

2、内炉膛表面涂有美国进口氧化铝涂层,可以提高反射率和保护炉膛洁净度。

3、采用PID控制器,可以设置30段升降温程序。

4、金属箔缠绕在内管的外表面上发生CVD反应。

5、采用双管真空密封法兰,允许反应气体通过两管之间(10mm间隙)。

6、冷却气体直接通入内管。

7、配有带KF25快接和波纹管的高速机械泵。

8、炉底部装有滑轨,炉体可从一端滑向另一端,从而实现快速升温和降温。为了获得较快的加热速度,可以先将炉体预热,然后滑至放置样品处;为了获得较快的冷却速度,可将炉体滑至另一端,同时将冷气通入样品所在处。

9、密封法兰系统采用不锈钢制作。

10、已通过CE认证。

技术参数

管式炉

1、电源:单相AC 208V-240V   50Hz/60Hz  2.5KW (20A保险丝)

2、石英管:外管外径?100mm,内径?96mm,长1400mm

内管外径?80mm,内径?75mm,长1400mm

3、加热元件:掺钼铁铬铝合金电阻丝(表面涂有氧化锆)

4、加热区域:440mm

5、恒温区域:120mm(±1℃在400℃-1100℃)

6、工作温度:最高1100℃,连续工作1000℃

7、最大升降温速率:20℃/min

8、控温精度:±1℃

9、真空度:10-2torr(机械泵),10-5torr(分子泵)

质量流量混气系统

1、质子流量计:4路精密质子流量计,数字显示,气体流量自动控制

MFC1范围0-100sccm,MFC2范围0-200sccm,MFC3范围0-200sccm,MFC4范围0-500sccm

2、流量精度:0.2%

3、气路:4路(每个气路都有一个独立的不锈钢针阀控制)

4、进出气口:1/4"卡套

5、混气罐:1个


产品规格

尺寸:管式炉550mm×380mm×520mm,移动架600mm×600mm×597mm

重量:135kg

可选配件

1、分子泵

2、双温区管式炉

3、铜箔(生长石墨烯150mm×150mm×25μm)


1200℃双管滑动式四通道混气CVD系统信息由沈阳科晶自动化设备有限公司为您提供,如您想了解更多关于1200℃双管滑动式四通道混气CVD系统报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。

注:该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案,不可用于临床诊断或治疗等相关用途

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