钙钛矿镀膜机

钙钛矿镀膜机主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作，广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域。

主要特点

1、样品位于真空室上方，蒸发源位于真空室下方，向上蒸发镀膜，且蒸发源带有挡板装置。

2、设有烘烤加热功能，可在镀膜过程中加热样品，最高烘烤加热温度为180℃。

3、设有断水、断电连锁保护报警装置及防误操作保护报警装置。

技术参数

1、镀膜室：不锈钢材料，采用方形前后开门结构，内带有防污板，腔室尺寸约为600mm×450mm×450mm

2、真空排气系统：采用分子泵+机械泵系统

3、真空度：镀膜室极限真空≤6×10^-4Pa

4、系统漏率：≤1×10^-7Pa

5、蒸发源：安装在真空室的下底上；有机蒸发源4个、容积5ml，2台蒸发电源，可测温、控温，加热温度

                      400℃，功率0.5KW；无机蒸发源4套、容积5ml，2台蒸发电源，加热电流300A，功率3.2KW；蒸

　　　　　  发源挡板采用自动磁力控制方式控制其开启

6、样品架：安装在真空室的上盖上，可放置?120mm的样品、载玻片，旋转速度0-30rpm

7、加热温度：RT-180℃，测温、控温

8、膜厚控制仪：石英晶振膜厚控制仪，膜厚测量范围0-999999A

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途