提高芯片制造质量的关键 -电子气体过滤

颇尔长期以来一直致力于立足中国、服务中国。为了契合中国半导体发展趋势，也为了贴近国内本土客户应用需求，颇尔正在加速中国的本土化布局，设立研发中心（SLS）和生产基地，将生产、制造、研发一系列动作在本土完成，利用中国的供应链和人才基础赋能行业客户，并竭力配合客户在生产过程中的多样化需求。

随着半导体产业的迅速发展，电子气体过滤技术也得到了极大的关注。在半导体行业中，要保证电子气体的高纯度和洁净度，必须使用优质的过滤解决方案。过滤技术是半导体行业制造工艺中必不可少的一个环节，其作用是有效减少杂质和颗粒物对制造过程的干扰，保障半导体器件的质量和稳定性。

在半导体行业中，要求电子气体的纯度达到极高的水平，其中最高纯度要求可以达到9N甚至是更高。这个高纯度的要求是制造出高质量半导体器件的必要条件。一旦电子气体中出现了杂质和颗粒物，就会影响到半导体器件的性能和质量，甚至会造成整个产品线的污染和报废。

因此，要想制造高质量的半导体器件，必须使用高效的过滤技术。过滤技术可以有效地降低电子气体中的杂质和颗粒物的含量，提高电子气体的纯度和洁净度。过滤技术在半导体行业中的应用非常广泛，涉及到多个制造工艺环节，如光刻、刻蚀、气相沉积等等。

在电子气体过滤中，高效的过滤材料和设备是非常重要的。过滤材料需要具备高度的耐腐蚀性、高温抗性和高纯度等特点，以保证电子气体过滤的稳定性和效果。此外，过滤设备也需要具备高精度、高效率和高稳定性等特点，以满足半导体行业的高要求。

目前，电子气体过滤技术已经成为半导体行业制造工艺中不可或缺的一部分。许多国内外知名的半导体制造企业都已经开始注重电子气体过滤技术的研究和应用。随着半导体行业的不断发展和技术的不断提高，电子气体过滤技术也在不断地进行升级和改进。

在未来，电子气体过滤技术将继续向更高效、更精确和更智能的方向发展。因此，为电子气体和终端应用选择合适的过滤器来去除杂质、提高纯度，成为保障电子气体可靠性的关键之一。由此，业界也开始关注到了这个芯片良率背后容易被忽视的部分——过滤、纯化和分离解决方案市场。

过滤、分离、纯化这个市场也与半导体产业的发展相辅相成。颇尔公司作为此行业的知名企业，在过滤器领域已有超过75年的历史，在这几十年的投入当中，随着半导体对电子材料的依赖越来越大，颇尔也开启对半导体材料方面的过滤研究。

其中，半导体行业里的气体过滤和纯化就是颇尔重点发展和研究的方向之一，如下图所示，半导体行业气体应用主要分大宗气体，气柜，设备Hook up，气体面板集成和POU端应用等。在不同应用点位上，颇尔的气体产品基本能够实现能 全方位进行覆盖。

颇尔拥有PTFE、HAPAS、316L不锈钢、镍和陶瓷膜材用于气体过滤，可以过滤粒径≥3nm (0.003µm) 的半导体应用气体。

在具体产品上，颇尔有适用于超大流量的Emflon High Flow系列滤芯，有适用于大中流量的VFSH系列滤芯，有适用于中小流量的Gaskleen系列，应用点位覆盖集成气体输送系统和机台终端，为半导体各环节的气体净化保驾护航。

同时，对于气体过滤的新趋势，颇尔也是行业领跑者较早进入该领域且取得了一定成绩的市场主体：

顶部安装式元件

集成气体输送系统为整合气体输送系统元件的最新设计。在该设计中，元件集成在表面贴装基板上，在降低空间需求、减少设备停机时间和成本方面具有许多优势。

颇尔顶部安装式过滤器组件非常适合用于集成气体输送系统，并且易于在安装基板上进行检修和更换。该过滤器设计 用于＞3nm半导体级气体的过滤，并且可用于各种材料、流速和接口连接。 该组件可在高达100slpm流速下用于316L不锈钢、镍和PTFE介质。同时，该组件可用于多种接口，包括通过C型密封和W型密封连接的接口。

扩散器

气体扩散器非常适合用于加载互锁接口或其他真空腔室（大量气体在短时间内流经小孔口）的排气应用。颇尔ChamberKleen™扩散器将不锈钢过滤器和可360度流动的独特扩散器膜组合在一起。这种组合可实现大量气体 均匀流动，限制腔室内颗粒的干扰。因此可在几乎无颗粒干扰的情况下实现快速排气，从而提高晶圆生产量和设备综合效率。

可以看出，颇尔的过滤、纯化解决方案可用于涵盖目前市场上绝大多数类型的各类半导体制造过程中用到的气体工艺及装备，以满足客户不同功能、高质量、节省成本和提高生产效率等方面的需求。

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