毫无争议的zei佳原子力显微镜-自动缺陷检查和表面粗糙度测量

更高的通量，自动的缺陷检查

对于媒介和基体领域的工程师而言，识别纳米级缺陷是一个非常耗时的工作。Park NX-HDM原子力显微镜系统可借助数量级实现自动缺陷识别、扫描和分析，从而加速缺陷检查过程。Park NX-HDM可与众多的光学检查工具直接连接，这意味着自动缺点检查通量大幅提高。

次埃米表面粗糙度测量

行业对于超平媒介和基体的要求越来越高，从而满足体积不断减小的设备需求。此外，Park NX-HDM拥有精确的次埃米表面粗糙度测量功能。凭借着行业zei低的本底噪声和独特的True Non-Contact™技术，Park NX-HDM毫无疑问是市面上表面粗糙度测量zei精确的原子力显微镜。

* 应用

- 媒介和基体自动缺陷检查

更高的通量，自动的缺陷检查

NX-HDM的自动缺陷检查功能(Park ADR)可加速和改良识别、扫描和分析媒介和基体缺陷的流程。借助光学检查工具提供的缺陷位置图，Park ADR可自动定位这些位置并进行成像（分两步）： 

（1）缩小扫描成像，以准确定位缺陷。

（2）放大扫描成像，以获取缺陷的细节。在真实缺陷测试中，我们可以看到相比于传统的方法，该自动功能可将缺陷检查通量提高到10倍。

自动搜寻式扫描和放大扫描

经过优化的扫描参数让两步式扫描更为快速： 

（1）快速的低分辨率搜寻式扫描，以准确定位缺陷。

（2）高分辨率的放大扫描，以获取缺陷的细节。扫描尺寸和扫描速度参数可调节，从而满足用户需求。

缺陷坐标图自动传入和映射至原子力显微镜

借助独有的先进映射算法，从自动光学检测(APO)工具中获取的缺陷坐标图可准确地传入和映射至Park NX-HDM。该技术让全自动高通量缺陷成像成为可能。

光学检测工具的缺陷坐标图

 - 精确的次埃米表面粗糙度测量

次埃米表面粗糙度测量

行业对于超平媒介和基体的要求越来越高，从而满足体积不断减小的设备需求。此外，Park NX-HDM拥有精确的次埃米表面粗糙度测量功能。凭借着行业zei低的本底噪声和独特的True Non-Contact™技术，Park NX-HDM毫无疑问是市面上表面粗糙度测量zei精确的原子力显微镜。

* 技术特点

全自动图形识别

借助强大的高分辨率数字CCD镜头和图形识别软件，Park NX-HDM让全自动图形识别和对准成为可能。

自动测量控制

自动化软件让NX-HDM的操作不费吹灰之力。测量程序针对悬臂调谐、扫描速率、增益和点参数进行优化，为您提供多位置分析。

自动化软件会按照测量文件中预设的程序进行样品测量。Park的用户友好型软件界面让用户可灵活执行全系统功能。创建新测量文件只需要10分钟左右的时间，而修改现有的测量文件则需要不到5分钟的时间。

Park NX-HDM具有： 

·自动、半自动和手动模式 

·各自动程序的可编辑测量方法 

·测量过程实时监测 

·自动分析所获取的测量数据

二维柔性导引扫描器，超大的100 μm x 100 μm扫描范围

XY轴扫描器含有对称的二维柔性和高强度压电叠堆，可在保持平面外运动zei少的情况下，实现高正交运动以及纳米级样品扫描下的高响应度。

闭环式XY轴扫描器带双轴伺服系统

XY轴扫描器的各轴上配有两个对称的低噪声位置感应器，得以在zei大的扫描范围和样品尺寸下保持高正交扫描。双感应器能够修正和补偿单感应器引起的非线性和非平面位置误差。

高速Z轴扫描器，扫描范围达15 μm

借助高强度压电叠堆和柔性结构，标准Z轴扫描器的共振频率高达9 kHz以上（一般为10.5 kHz）且探针的Z轴移动速率不低于48 mm/秒，让信息反馈更为准确。zei大Z轴扫描范围可从标准的15 μm扩展至40μm（可选购的远距离Z轴扫描器）。

低噪声XYZ轴位置传感器

行业领先的低噪声Z轴探测器替代Z电压，作为样貌信号。此外，低噪声XY闭环扫描可将正向扫描和反向扫描间隙降至扫描范围的0.15%以下。

行业zei低的本底噪声

 为了检测zei小的样品特征和成像zei平的表面，Park推出行业本底噪声zei低（< 0.5?）的显微镜。本底噪声是在“零扫描”情况下确定的。当悬臂与样品表面接触时，在如下情况下测量系统噪声：

·0 nm x 0 nm扫描范围，停在一个点

·0.5增益，接触模式 

·256 x 256像素

离子化系统

离子化系统可有效地消除静电电荷。由于系统随时可生产和位置正离子和负离子之间的理想平衡，便可以稳定地离子化带电物体，且不会污染周边区域。它也可以消除样品处理过程中意外生成的静电电荷。

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途