NANOMAP 500LS轮廓仪/三维形貌仪，既有高精密度和准确度的局部（Local）SPM扫描，又具备大尺度和高测量速度；既可用来获得样品表面垂直分辨率高达0.05nm的三维形态和形貌，又可以定量地测量表面粗糙度及关键尺寸，诸如晶粒、膜厚、孔洞深度、长宽、线粗糙度、面粗糙度等，并计算关键部位的面积和体积等参数。样件无须专门处理，在高速扫描状态下测量轮廓范围可以从1nm 到10mm。该仪器的应用领域覆盖了薄膜/涂层、光学，工业轧钢和铝、纸、聚合物、生物材料、陶瓷、磁介质和半导体等几乎所有的材料领域。

美国AEP Technology公司主要从事半导体检测设备, MEMS检测设备, 光学检测设备的生产制造，是表面测量解决方案行业的领先供应者,专门致力于材料表面形貌测量与检测。

NANOMAP 500LS轮廓仪/三维形貌仪技术特点

• 常规的接触式轮廓仪和扫描探针显微镜技术的完美结合。

• 双模式操作（针尖扫描和样品台扫描），即使在长程测量时也可以得到最优化的小区域三维测图。

• 针尖扫描采用精确的压电陶瓷驱动扫描模式，三维扫描范围从10μm X 10μm 到500μm X 500μm。样品台扫描使用高级别光学参考平台能使长程扫描范围到50mm。

• 在扫描过程中结合彩色光学照相机可对样品直接观察。

• 针尖扫描采用双光学传感器，同时拥有宽阔测量动态范围（最大至500μm）及亚纳米级垂直分辨率　（最小０.１nm ）

• 软件设置恒定微力接触。

• 简单的2步关键操作，友好的软件操作界面。

应用
 

• 三维表面轮廓测量和粗糙度测量，即适用于精密抛光的光学表面也可适用于质地粗糙的机加工零件。

• 薄膜和厚膜的台阶高度测量。

• 划痕形貌，磨损深度、宽度和体积定量测量。

• 空间分析和表面纹理表征。

• 平面度和曲率测量。

• 二维薄膜应力测量。

• 微电子表面分析和MEMS表征。

• 表面质量和缺陷检测。

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途