滑动式二硫化钼CVD制备设备

滑动式二硫化钼CVD制备设备

一、 滑动式二硫化钼CVD制备设备概述
硫粉预热器采用管内测控温以保证在250℃以下，稳定控制硫蒸汽的蒸发时机和蒸发温度。真空机组装有真空粉尘过滤器以保护机械式真空泵不被硫粉尘损坏。采用耐腐蚀电阻电容复合真空计（在1000Pa以上测量不受气体种类影响，耐硫蒸气腐蚀），通过调节真空蝶阀的开启程度调节炉管内压力稳定，在1200℃以下的工艺温度稳定气相沉积二硫化钼等二维化合物材料。
二、  滑动式二硫化钼CVD制备设备设备组成
HCVD-1200S双温区管式炉，HTF400C硫粉预热器(双温区管式炉与预热器可滑动)，质量流量计供气系统，机械式真空泵等组成。
 三、  滑动式二硫化钼CVD制备设备主要技术参数
硫粉预热器 

型号：HTF-400C

工作温度：350℃

MAX温度：400℃

MAX升温速率：30℃/min

推荐升温速率：10℃/min

控温方式：智能化30段可编程控制

工作电压：AC220 V额定功率：800W

控温精度：±1℃

加热元件：电阻丝 

双温区硫化炉 

型号：HCVD-1200S

技术参数：额定功率(KW):3

额定电压(V):AC220v  50/60 Hz

MAX温度(℃):1200（1 hour）

持续工作温度(℃）：1100

升温速率（℃/min）：≤50

炉管尺寸（mm）：高纯石英管Φ50×1500mm

加热区长度（mm）：440mm

恒温区长度（mm）:200mm 

控温方式:模糊PID控制和自整定调节，智能化30段可编程控制，具有超温和断偶报警功能

控温精度(℃):±1

加热元件:电阻丝
供气系统GMF3Z 

质量流量计重量：35Kg

外形尺寸：600x600x650mm

连接头类型：双卡套不锈钢接头

标准量程（N2标定)：50sccm、200sccm、500sccm； （可根据用户要求定制）

准确度：±1.5%线性：±0.5～1.5%重复精度：±0.2%

响应时间：气特性：1～4 Sec，电特性：10 Sec

工作压差范围：0.1～0.5 MPa MAX压力：3MPa

接口：Φ6,1/4''

显示：4位数字显示

工作环境温度:5~45℃

内外双抛不锈钢管：Φ6

压力真空表：－0.1～0.15 MPa, 0.01 MPa/格 

截止阀：Φ6
低真空机组VAU-02 

技术参数：

空气相对湿度≤85%

工作电电压：220V±10%  50~60HZ

 功率：1千瓦

抽气速率：4L\s

极限真空：4X10-2Pa

实验真空度：1.0X10-1Pa

容油量：1.1L

进气口口径：KF25

排气口口径：KF25

转速：1450rpm

噪音：50dB

外型尺寸:450×180×240mm
配真空粉尘过滤器，DN25手动蝶阀用于控制炉管内压力，INFICON PCG554复合真空计