Park帕克原子力显微镜
400-6699-117转1000
热门搜索：
青铜会员
诚信认证:
工商注册信息已核实！
扫一扫即可访问手机版展台
- 群英荟萃 Park葳蕤: Park 出席半导体先进技术大会展示Park原子力显微镜在化合物半导体应用 发布时间：2024-05-27 16:27:44
- 群英荟萃 Park葳蕤: Park Systems 出席半导体先进技术大会展示Park原子力显微镜在化合物半导体应用2024年5月22日，2024半导体先进技术创新发展和机遇大会于苏州召开，会议针对化合物半导体制造与封装等话题展开产业高端对话。作为原子力显微镜的创新者和引领者，Park原子力显微镜在...... [全文]
- 网络讲座：一种可印刷、可重构的虎符式交流电致发光器件 发布时间：2024-05-20 13:41:10
- 讲座内容：柔性发光器件在未来可穿戴设备、表皮电子、软体机器人等领域有着广阔的应用前景。基于弹性体的交流电致发光器件具有高柔性、结构简单、成本低廉等优点，因此成为了近年来的研究热点。然而，这类弹性器件大多要用到传统离子凝胶等材料作为透明电极，这类材料导电性较差且难以实现高分辨率的图案化，阻碍了弹性交流...... [全文]
- 2024 Park AFM第一批奖学金获奖名单公布 发布时间：2024-05-14 15:10:36
- ...... [全文]
- 苏州会议邀请函：2024半导体先进技术创新发展和机遇大会 发布时间：2024-05-08 16:03:18
- Park原子力显微镜5月22-23日，由雅时国际商讯（ACT International）组织举办的“2024半导体先进技术创新发展和机遇大会（SAT Con 2024）”即将举行，本次会议将分别以“化合物半导体先进技术及应用大会”和“CHIP China晶芯研讨会”两种形式三场论坛进行。会议包括：...... [全文]
- 网络讲座复播视频：原子力显微镜缺陷检测的相关应用 发布时间：2024-05-07 13:42:45
- Park Systems原子力显微镜缺陷检测的相关应用高彦伟 (Park Systems)Park资深技术支援工程师Park Systems左方扫码免费观看复播视频报告介绍：演讲题目: 原子力显微镜缺陷检测的相关应用半导体生产制造工艺中，缺陷是影响良率的主要因素之一。及时地发现和检测缺陷，...... [全文]
- 以匠心映绘科技，以至诚点亮售后——Park Systems的“新”型售后 发布时间：2024-04-22 17:14:29
- Pak Systems售后是企业可持续发展的基石，也是企业成功的关键。作为原子力显微镜的创新者和引领者，Park Systems始终以“新型 高效 优质 ”为售后理念，致力于帮助客户有效解决产品的售后问题，坚定承诺不断满足客户的需求，为客户提供满意的原子力显微镜使用体验。Park Systems实时...... [全文]
- 积极响应国家利好政策：Park Systems 支持设备更新，助力节能提效 发布时间：2024-04-01 15:02:39
- 近日，国务院常务会议审议通过《推动大规模设备更新和消费品以旧换新行动方案》，这将有力促进投资和消费。为加快构建新发展格局、推动国民经济高质量发展，工业、农业、教育、医疗等多个领域，都迅速掀起了设备更新的浪潮。作为原子力显微镜的创新者和引领者，Park Systems 将积极响应此项国家利好政策，为P...... [全文]
- 3月29日“缺陷检测-半导体材料和器件研发和生产的利器”主题线上会议(蔡司, Park,九峰山实验室联合论坛） 发布时间：2024-03-25 14:51:41
- Park Systems2024年3月29日，ACT雅时国际商讯《化合物半导体》将联合Park原子力显微镜、蔡司显微镜、九峰山实验室给大家带来“缺陷检测-半导体材料和器件研发和生产的利器”的线上主题论坛，助力我国宽禁带半导体行业的快速健康发展。14:0014:30半导体材料与器件的材料特性表征与分析...... [全文]
- 邀请函: Park Systems 邀您共赴 2024 SEMICON CHINA 发布时间：2024-03-12 10:40:47
- Park SystemsSEMI连接2500多家会员企业和全球130万专业人士来推进科学和电子制造行业进步。SEMI会员企业覆盖设备、材料、设计、封装测试、制造、软件和服务微电子集成电路产业链各领域，经由创新，让电子产品更智能、更高效、更多功能、性价比更高。Park Systems作为一家跨国企业，...... [全文]
- Park Systems 专用分析软件助力3D NAND 良率控制 发布时间：2024-02-23 10:28:37
- 近期东京电子近日宣布旗下等离子体蚀刻系统的开发和制造基地已开发出一种已开发出一种用于存储芯片的通孔蚀刻技术，可用于制造 400 层以上堆叠的 3D NAND 闪存芯片。东京电子新的蚀刻技术较国内目前长江存储可做到232层堆叠，开发团队的新工艺首次将电介质蚀刻应用带入低温范围，从而打造了一个具有极高蚀...... [全文]