(一). PioneerTwo多功能电子束光刻设备：
PioneerTwo采用30kVGemini电子束技术，可用于2英寸以下晶圆的纳米级光刻、高分辨成像及低压电子束光刻。在HSQ胶上曝光可制作出亚8nm线条。
(二). eLinePlus多功能电子束光刻设备：
eLinePlus是一款集成了纳米操纵设备的电子束光刻设备，广泛应用于学校和各大科研机构，采用30kVGemini电子束技术，在4英寸以下基板上制作亚5nm线条，可实现纳米工程、纳米操纵、纳米探测和其他纳米级应用。
(三). Raith150Two专业型电子束光刻设备：
Raith150Two是一款高分辨电子束光刻设备，采用30kVGemini电子束技术，可应用于8英寸以下基板的纳米级光刻、高分辨成像及低压电子束光刻，并可实现亚5nm的曝光结构。
(四). Voyager专业型电子束光刻设备：
Voyager采用50kVeWrite电子束技术，适用于8英寸以下基板的高速直写，可用于衍射光学元件、防伪元件的加工及化合物半导体器件的高速加工，并在HSQ胶上制作亚7nm线条。
(五). EBPG5150/5200专业型电子束光刻设备：
EBPG5150/5200采用100kVEBPG电子束技术，应用于8英寸以下基板的高深宽比纳米结构曝光、高速电子束直写，可选择不同的升级选项适用于不同应用的需求。可实现超快速且低噪声的曝光，具有较高的束流密度和出色的直写性能，可实现≤5nm的叠加精度。
EVG电子束直写系统 EBPG5150信息由北京亚科晨旭科技有限公司为您提供，如您想了解更多关于EVG电子束直写系统 EBPG5150报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。
注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途
