NIE-3000离子束清洗系统

NIE-3000离子束清洗系统产品概述：该系统为手动放片取片，但通过计算机全自动实现工艺控制的台式离子束刻蚀系统，系统具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。

NIE-3000离子束清洗系统产品特点：

·         低成本

·         离子束：高达2KV/10mA

·         离子电流密度100-360uA/cm2

·         离子束直径：4",5",6"

·         兼容反应及非反应气体(Ar, O2, CF4,Cl2)

·         极限真空5x10^-7Torr

·         260l/s涡轮分子泵，串接500 l/min干泵

·         14"不锈钢或铝质腔体

·         水冷旋转/倾斜样品台(NIE-3500)

·         自动上下载片（NIE-3500）

·         基于LabView软件的PC计算机全自动控制

·         占地面积30"x30"

产品应用：

·         表面处理

·         离子铣

·         表面清洗

·         带活性气体的离子束刻蚀：  光栅刻蚀，以及SiO2，Si和金属的深槽刻蚀

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途