日本EHC 平行光曝光系统HTE-510-EHC

平行光曝光系统

设计紧凑的平行光曝光系统。

这种准直镜式平行光曝光系统使用一个超高压汞灯作为点光源。 主要部件由光源、吸式曝光台和面罩单元组成，曝光方式可以是真空接触（硬接触）曝光方式。 也可根据要求提供接近系统。

对于曝光控制，安装了一个集成的测光表，以方便设置正确的曝光量。

基本信息

基本规格。

工件尺寸：150毫米×150毫米，厚度约0.1 - 1.0毫米

光学性能：超高压汞灯1KW（风冷），波长约300-470纳米（主波长365、405、436纳米）。

紫外线照度约为40 mw/cm^2的初始值（@365 nm），照度分布为90% min。

射线平行度：准直半角≤1.5°，倾角≤1.0°。

曝光快门：用空气驱动的快门打开/关闭

曝光控制：取决于集成测光表（控制波长为365纳米），20通道记忆

面罩（基本）： □8英寸玻璃面罩，3.0毫米或5.0毫米厚

曝光台：吸气台，前/后可移动，内置真空泵

上层框架类型：专用玻璃罩框架或麦拉框架

公用设施：电源3相200V 50/60 Hz，断路器开关30A，10.5KVA

　　　　　　　压力空气约0.5 Mpa

　　　　　　　废气：约8 m^3/min

外部尺寸：(W)800mmx(D)1470mmx(H)1915mm

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途