全自动磁控离子溅射仪 GVC-2000

产品特点

• 液晶显示屏简便操作

• 自动抽真空做样

• 自动放气

• 溅射电流范围大

• 溅射效率高

• 颗粒度小

• 样品表面无温升

• 适用温度敏感性样品

应用领域

场发射电镜、电极制备、温度敏感样品制备

技术指标

• 工作方式：全自动磁控

• 溅射电流：5-45mA

• 靶材：金、铂（标配、二选一）

• 溅射电压：600V

• 真空泵：油封式旋片泵1L/s（可选配涡旋干泵）

• 真空度：＜1Pa

产品特性

本仪器主要用于扫描电镜样品制备、电极材料研究等领域，液晶显示屏简便操作、自动抽真空做样、自动放气、溅射电流范围大、溅射效率高、颗粒度小、样品表面无温升，适用温度敏感性样品等特点，可适用金、铂、银、钛、铬、铝、铜、铅等常用靶材。

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途