LIBRA 200FE
场发射器:肖特基场发射系统
加速电压:
在 80 kV 和 200 kV 之间可调;
两个完整的工厂对中是标准的,默认是 120 kV 和 200 kV
zl的库勒照明:
三透镜聚光镜系统以得到平行和均匀的 TEM 宽视场照明而不依赖于照明强度
根据放大倍数自动选择聚光镜光栏(AIS 模式)
用按钮操作,快速和方便的在 TEM 和点方式之间转换
在 TEM 和点方式中的再现性和照明条件的控制
空间分辨率
真正对称的物镜 = 两种类型
点分辨率:HR(高分辨率)0.24nm;HT(高倾斜)0.29nm
信息界限:HR(高分辨率)0.14nm;HT(高倾斜)0.19nm
STEM分辨率:HR(高分辨率)0.30nm;HT(高倾斜)0.45nm
能量分辨率:≤ 0.7 eV
校正式OMEGA过滤器
校正二级色差并优化三级色差
对中:工厂对中
色散:1.85 μm/eV @ 200 kV
畸变:< 1.5 %
放大系数:1(过滤器没有放大)
电路:4 块磁铁和 7 个多极校正器
探测器:可选(可使用 4k x 4k 慢扫描 CCD 照相机)
接收角:> 100 mrad @ ΔE = 10 eV 狭缝宽度和 200kV;> 150 mrad @ ΔE = 20 eV 狭缝宽度和 200kV
透过率:190 nm² @ ΔE = 1 eV 狭缝宽度和 200kV
等色性:< 0.5 eV 在样品上视场超过 Ø 2.5 m
样品台:
5 轴完全优中心测角器
倾斜角:
α / β ± 30° / ± 30° (HR 极片)
α / β ± 70° / ± 30° (HT 极片)
二者都是双倾斜分析样品座
α ± 70° (HR 极片)
带有专用的层面样品夹
成像系统:在能量过滤器的前面和后面有两组 3 透镜投影镜
放大倍数:
TEM 8 x ~ 1,000,000 x(对于 HR 极片)
STEM 2,000 x ~ 5,000,000 x
EELS 20 x ~ 315 x(谱线放大倍数)
真空系统:
无油和分级抽空的真空系统
具有缓冲罐的前级真空涡旋泵
用于观察室、过滤器和气锁的涡轮分子泵
用于镜筒的离子吸气泵
用于发射区的两个离子吸气泵
系统控制:
带有 Windows® XP 的 WinTEM™图像用户界面,用鼠标、键盘和专用控制板来操作
LIBRA基本规格 | ||||
LIBRA 120 | LIBRA200FE | LIBRA200MC | ||
图像分辨率 | 0.34 nm | 0.24 nm | ||
能量分辨率 | <1.5 eV | <0.7 eV | <0.2 eV | |
加速电压 | (20)80-120 kV | 200 kV | ||
放大倍数 | 8-630,000x | 8 - 1,000,000x | ||
电子枪 | Lab6或W | 热场发射电子枪 | ||
照明系统 | Koehler(库勒)(平行束照明系统) | |||
真空系统 | 完全无油系统 | |||
系统控制 | 基于Windows® XP的WinTEM™ |
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