日立驰名的冷场发射电子源和300 kV加速电压技术共同打造了超高分辨率成像和高灵敏度分析功能。双棱镜全息技术,空间分辨电子能量损失谱以及高精度平行纳米电子束衍射技术开辟了高效,高精度样品分析的新途径。
特点:
分辨率
0.1 nm(晶体点阵)
0.19 nm(点对点)
0.13 nm(信息极限)
放大倍数
200倍 至 1,500,000倍
加速电压
300 kV, 200 kV*, 100 kV*
*:选购附件
高亮度冷场发射电子枪冷
场发射电子枪先天具有的高亮度和高能量分辨率能力保证了纳米量级分析研究成为可能,对超高分辨图像和电子全息摄影具有极大贡献。
300KV高压系统
300KV高压系统保证了厚样品的原子分辨率图像,而在金属和陶瓷等高原子序数样品观测时由于电子透过能力弱,300KV高压更是经常需要用到。
独特的分析能力
新引入了双重双棱镜全息摄影功能、空间分辨电子能量损失谱(EELS)和高精度平行纳米束衍射技术等独特的分析能力。
可与FIB联用样品杆
日立公司专有的样品杆可适应FIB、TEM和STEM的使用。
简便易用的控制系统
基于Windows开发的电脑控制系统、马达驱动可动光阑、5轴马达样品台市的仪器简单易用。10分钟的升压时间和1分钟的换样时间保证了仪器高效率运转。
日立驰名的冷场发射电子源和300 kV加速电压技术共同打造了超高分辨率成像和高灵敏度分析功能。双棱镜全息技术,空间分辨电子能量损失谱以及高精度平行纳米电子束衍射技术开辟了高效,高精度样品分析的新途径。
分辨率
0.1 nm(晶体点阵)
0.19 nm(点对点)
0.13 nm(信息极限)
放大倍数
200倍 至 1,500,000倍
加速电压
300 kV, 200 kV*, 100 kV*
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