蔡司Gemini Sigma 300/VP SEM超高分辨率场发射扫描电镜

【总体描述】

　　 二十多年来，基于日渐完善的Gemini技术，GeminiSEM具有完整高效的检测系统、极高的分辨率以及简便的操作方式。Gemini物镜设计将静电场与磁场结合，可在zei大限度地提升光学性能的同时将场发射对样品的损伤降至zei低。此设计确保了极佳的成像质量，即使是较具挑战性的磁性材料也同样可以达到良好的成像效果。通过二次电子和背散射电子的检测也使得高效率的信号探测成为可能。探测器安装在光轴上，可以减少调整时间，并可zei大限度地降低成像时间。Gemini电子束加速器技术确保了小的探针尺寸和高的信噪比，以达到超低的加速电压。

　　【产品应用】

　　 扫描电镜(SEM)广泛地应用于金属材料(钢铁、冶金、有色、机械加工)和非金属材料(化学、化工、石油、地质矿物学、橡胶、纺织、水泥、玻璃纤维)等 检验和研究。在材料科学研究、金属材料、陶瓷材料、半导体材料、化学材料等领域进行材料的微观形貌、组织、成分分析，各种材料的形貌组织观察，材料断口分 析和失效分析，材料实时微区成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面扫描和线扫描分布测量，晶体、晶粒的相鉴定，晶粒尺寸、形状分析，晶体、晶 粒取向测量。

灵活的探测，4步工作流程，高级的分析性能

将高级的分析性能与场发射扫描技术相结合，利用成熟的 Gemini 电子光学元件。多种探测器可选：用于颗粒、表面或者纳米结构成像。Sigma 半自动的4步工作流程节省大量的时间：设置成像与分析步骤，提高效率。

Sigma 300 性价比高。Sigma 500 装配有一流的背散射几何探测器，可快速方便地实现基础分析。任何时间，任何样品均可获得精准可重复的分析结果。

用于清晰成像的灵活探测

• 利用zei新探测术为您的需求定制 Sigma，表征所有样品。
  

• 利用 in-lens 双探测器获取形貌和成份信息。
  

• 利用新一代的二次探测器，获取高达50%的信号图像。在可变压力模式下利用 Sigma 创新的 C2D 和 可变压力探测器，在低真空环境下获取高达85%对比度的锐利的图像。
  

自动化加速工作流程

• 4步工作流程让您控制 Sigma 的所有功能。在多用户环境中，从快速成像和节省培训首先，先对样品进行导航，然后设置成像条件。

• 首先，先对样品进行导航，然后设置成像条件。
  

• 接下来对样品感兴趣的区域进行优化并自动采集图像。zei后使用工作流程的zei后一步，将结果可视化。
  

高级分析型显微镜

• 将扫描电子显微镜与基本分析相结合：Sigma 一流的背散射几何探测器大大提升了分析性能，特别是对电子束敏感的样品。

• 在一半的检测束流和两倍的速度条件下获取分析数据。

• 获益于8.5 mm 短的分析工作距离和35°夹角，获取完整且无阴影的分析结果。

基于成熟的 Gemini 技术

• Gemini 镜头的设计结合考虑了电场与磁场对光学性能的zei大化影响，并将场对样品的影响降至zei低。这使得即使对磁性样品成像也能获得出色的效果。
  

• Gemini in-lens 的探测确保了信号探测的效率，通过二次检测(SE)和背散射(BSE)元件同时减少成像时间。
  

• Gemini 电子束加速器技术确保了小的探测器尺寸和高的信噪比。

用于清晰成像的灵活探测

• 利用zei新的探测技术表征所有的样品。
  

• 在高真空模式下利用创新的 ETSE 和 in-lens 探测器获取形貌和高分辨率的信息。
  

• 在可变压力模式下利用可变压力二次电子和 C2D 探测器获取锐利的图像。
  

• 利用 aSTEM 探测器生成高分率透射图像。
  

• 利用 BSD4 或者 YAG 探测器进行成份分析。

 蔡司公司zei新推出Sigma300场发射扫描电镜采用成熟的GEMINI光学系统设计，将低电压成像技术发挥到了极致，采用适宜的探针电流范围，降低50%的信噪比从而提升了85%的衬度信息。Sigma300将高级的分析性能与场发射扫描技术相结合，多种探测器可选：用于颗粒、表面或者纳米结构成像。Sigma自动的四步工作流程大大节省了设置与分析操作的时间，提高效率。

【产品应用】       

    扫描电镜(SEM)广泛地应用于金属材料(钢铁、冶金、有色、机械加工)和非金属材料(化学、化工、石油、地质矿物学、橡胶、纺织、水泥、玻璃纤维)等 检验和研究。在材料科学研究、金属材料、陶瓷材料、半导体材料、化学材料等领域进行材料的微观形貌、组织、成分分析，各种材料的形貌组织观察，材料断口分   析和失效分析，材料实时微区成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面扫描和线扫描分布测量，晶体、晶粒的相鉴定，晶粒尺寸、形状分析，晶体、晶 粒取向测量。

【品牌故事】 

      世界顶级光学品牌，可见光及电子光学的领导企业----德国蔡司公司始创于1846年。其电子光学前身为LEO（里奥）,更早叫Cambridge（剑桥），积扫描电镜领域40多年及透射电镜领域60年的经验，ZEISS电子束技术在世界上创造了数个第一：

    第一台静电式透射电镜 (1949) 

      第一台商业化扫描电镜 (1965) 

      第一台数字化扫描电镜(1985) 

      第一台场发射扫描电镜(1990) 

      第一台带有成像滤波器的透射电镜 (1992) 

      第一台具有Koehler照明的 200kV 场发射透射电镜(2003) 

      第一台具有镜筒内校正Omega能量滤波器的场发射透射电镜(2003)

      CARL ZEISS以其前瞻性至臻完美的设计融合欧洲至上制造工艺造就了该品牌在光电子领域无可撼动的王者地位。自成立至今，一直延续不断创新的传统，公司拥有电镜制造zei核心   zei先进的专有技术，随着离子束技术和基于电子束的分析技术的加入、是全球唯一为您提供钨灯丝扫描电镜、场发射扫描电镜、双束显微镜(FIB and SEM)、透射电子显微镜等全系列解决方案的电镜制造企业。其产品的高性能、高质量、高可靠性和稳定性已得到全世界广大用户的信赖与认可。作为全球电镜标准缔造者的CARL ZEISS将一路领跑高端电镜市场为您开创探求纳米科技的崭新纪元。