蔡司SIGMA 500/VP高分辨率场发射扫描电镜

　　灵活的探测，4步工作流程，高级的分析性能

　　将高级的分析性能与场发射扫描技术相结合，利用成熟的 Gemini 电子光学元件。多种探测器可选：用于颗粒、表面或者纳米结构成像。Sigma 半自动的4步工作流程节省大量的时间：设置成像与分析步骤，提高效率。

　　Sigma 300 性价比高。Sigma 500 装配有一流的背散射几何探测器，可快速方便地实现基础分析。任何时间，任何样品均可获得精准可重复的分析结果。

特点：

用于清晰成像的灵活探测

• 利用zei新探测术为您的需求定制 Sigma，表征所有样品。
  

• 利用 in-lens 双探测器获取形貌和成份信息。
  

• 利用新一代的二次探测器，获取高达50%的信号图像。在可变压力模式下利用 Sigma 创新的 C2D 和 可变压力探测器，在低真空环境下获取高达85%对比度的锐利的图像。
  

自动化加速工作流程

• 4步工作流程让您控制 Sigma 的所有功能。在多用户环境中，从快速成像和节省培训首先，先对样品进行导航，然后设置成像条件。

• 首先，先对样品进行导航，然后设置成像条件。
  

• 接下来对样品感兴趣的区域进行优化并自动采集图像。zei后使用工作流程的zei后一步，将结果可视化。
  

高级分析型显微镜

• 将扫描电子显微镜与基本分析相结合：Sigma 一流的背散射几何探测器大大提升了分析性能，特别是对电子束敏感的样品。

• 在一半的检测束流和两倍的速度条件下获取分析数据。

• 获益于8.5 mm 短的分析工作距离和35°夹角，获取完整且无阴影的分析结果。

Gemini光学元件：基于成熟的 Gemini 技术

Gemini 镜头的设计结合考虑了电场与磁场对光学性能的zei大化影响，并将场对样品的影响降至zei低。这使得即使对磁性样品成像也能获得出色的效果。

Gemini in-lens 的探测确保了信号探测的效率，通过二次检测(SE)和背散射(BSE)元件同时减少成像时间。

Gemini 电子束加速器技术确保了小的探测器尺寸和高的信噪比。

灵活的探测：用于清晰成像的灵活探测

利用zei新的探测技术表征所有的样品。

在高真空模式下利用创新的 ETSE 和 in-lens 探测器获取形貌和高分辨率的信息。

在可变压力模式下利用可变压力二次电子和 C2D 探测器获取锐利的图像。

利用 aSTEM 探测器生成高分率透射图像。

利用 BSD4 或者 YAG 探测器进行成份分析。

　　【总体描述】

　　蔡司公司zei新推出的Sigma 500/VP场发射扫描电镜采用成熟的GEMINI光学系统设计，分辨率超过0.8nm，为您提供zei高分辨率和zei佳分析性能科研平台。Sigma500/VP专注于一流的EDS几何学设计使您可以获取精湛的分析性能。借助Sigma直观便捷的四步工作流程可以快速成像、简化分析程序、提高工作效率。您会比以往更快、更多的获取数据。多种探测器的选择使Sigma500/VP可以精准的匹配您的应用程序：您可以获取微小粒子、表面、纳米结构、薄膜、涂层和多层的图像信息。

　　【产品应用】

　　扫描电镜广泛用于材料科学（金属材料、非金属材料、纳米材料）、冶金、生物学、医学、半导体材料与器件、地质勘探、病虫害的防治、灾害（火灾、失效分析）鉴定、刑事侦察、宝石鉴定、工业生产中的产品质量鉴定及生产工艺控制等。在材料科学、金属材料、陶瓷材料半导体材料、化学材料等领域，进行材料的微观形貌、组织、成分分析。各种材料的形貌组织观察，材料断口分析和失效分析，材料实时微区成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面扫描和线扫描分布测量，晶体/晶粒的相鉴定，晶粒尺寸、形状分析，晶体、晶粒取向测量。