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HORIBA GD Profiler 2射频辉光放电光谱仪

tel: 400-6699-117 6216

堀场HORIBA辉光放电光谱仪, GD-Profiler 2是一款可进行超快镀层分析的理想工具,非常适合于导体(和/或)非导体复合镀层的分析。可分析70多......

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技术特点
【技术特点】-- HORIBA GD Profiler 2射频辉光放电光谱仪



GD-Profiler 2是一款可进行超快镀层分析的理想工具,非常适合于导体(和/或)非导体复合镀层的分析。可分析70多种元素,其中包括C、H、O、N和Cl。一次测试可轻松获取镀层元素深度分布、镀层厚度、镀层均一性及表面/界面等信息。


GD-Profiler 2可分析几纳米到200微米的深度,深度分辨率小于1纳米。GD-Profiler 2采用了脉冲式射频辉光源,可有效分析热导性能差以及热敏感的样品。此外,还采用了多项zl技术,如高动态检测器(HDD)可测试ppm-100%的浓度范围,zlPolyscan多道扫描的光谱分辨率为18pm~25pm等。主要应用领域包括镀锌钢板、彩涂板、新型半导体材料、LED晶片、硬盘、有机镀层、锂电池、玻璃、陶瓷等等。


技术参数:

1、射频发生器-标准配置、复合D级标准、稳定性高、溅射束斑极为平坦、等离子体稳定时间极短,表面信息无任何失真。

2、脉冲工作模式既可以分析常规的涂/镀层和薄膜,也可以很好地分析热导性能差和热易碎的涂/镀层和薄膜。

3、Polyscan多道(同时)光谱仪可全谱覆盖,光谱范围从110nm-800nm,可测试远紫外元素C、H、O、N和Cl。

4、HORIBA的原版离子刻蚀全息光栅保证了仪器拥有zei大的光通量,因而拥有卓越的光效率和灵敏度。

5、高动态检测器(HDD)可快速、高灵敏的检测ppm-100%含量的元素。动态范围为5×1010。

6、宽大的样品室方便各类样品的加载。

7、功能强大的Quantum软件可以灵活方便的输出各种格式的检测报告。

8、HORIBA独有的单色仪(选配)可极大地提高仪器灵活性,可实现固定通道外任意一个元素的同步测试,称为n+1。

9、适用于ISO14707和16962标准。


更多指标参数请访问HORIBA官网


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解密镀层工艺、解析镀层结构——Profiler 2





辉光放电光谱仪是解密镀层工艺、解析镀层结构的强有力手段,可以通过元素变化获得镀层结构、层间扩散、元素富集、表面处理、镀层均一性等信息,从而改善工艺条件等。主要应用行业有金属冶金、半导体器件、LED芯片、薄膜太阳能电池、锂电池阴阳极、光学玻璃、核材料等。


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GD-Profiler 2 作为超快镀层分析的理想工具,非常适合于导体和非导体复合镀层的分析,操作简单、便于维护,是镀层材料研发、质控的理想工具。


· 使用脉冲式射频辉光源,可有效分析热导性能差以及热敏感的样品。

·  采用多项zl技术,如高动态检测器(HDD),可测试ppm-100%的浓度范围,zlPolyscan多道扫描的光谱分辨率为18pm~25pm等。

·  分析速度快(2-10nm/s)

 

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技术参数:

1、射频发生器-标准配置、复合D级标准、稳定性高、溅射束斑极为平坦、等离子体稳定时间极短,表面信息无任何失真。

2、脉冲工作模式既可以分析常规的涂/镀层和薄膜,也可以很好地分析热导性能差和热易碎的涂/镀层和薄膜。

3、Polyscan多道(同时)光谱仪可全谱覆盖,光谱范围从110nm-800nm,可测试远紫外元素C、H、O、N和Cl。

4、HORIBA的原版离子刻蚀全息光栅保证了仪器拥有最大的光通量,因而拥有卓越的光效率和灵敏度。

5、高动态检测器(HDD)可快速、高灵敏的检测ppm-100%含量的元素。动态范围为5×1010

6、宽大的样品室方便各类样品的加载。

7、功能强大的Quantum软件可以灵活方便的输出各种格式的检测报告。

8、HORIBA独有的单色仪(选配)可极大地提高仪器灵活性,可实现固定通道外任意一个元素的同步测试,称为n+1。

9、适用于ISO14707和16962标准。




仪器原理:

辉光放电腔室内充满低压氩气,当施加在放电两极的电压达到一定值,超过激发氩气所需的能量即可形成辉光放电,放电气体离解为正电荷离子和自由电子。在电场的作用下,正电荷离子加速轰击到(阴极)样品表面,产生阴极溅射。在放电区域内,溅射的元素原子与电子相互碰撞被激化而发光。


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更多指标参数请访问HORIBA官网:

www.horiba.com/cn/scientific


概要

 GD-Profiler 2™提供了快速、同时分析所有感兴趣的元素,包括氮、氧、氢和氯。是薄膜描述和工艺研究的理想工具。

配有RF光源,可以在脉冲模式下检测易碎的样品,GD-Profiler 2™的应用范围从对腐蚀的研究到PVD涂层的工艺控制,在大学被广泛用于常规的金属和合金产品的研究。


特征

RF射频发生器- 标准配置,符合E级标准,稳定性高,溅射束斑极为平坦,等离子体稳定时间极短,表面信息无任何失真。

脉冲工作模式既可分析常见的涂、镀层和薄膜,也可以很好的分析热传导性能差和热易碎的涂、镀层和薄膜。

多道(同时)型光学系统可全谱覆盖,光谱范围:110nm至800nm,包含远紫外,可分析C, H, O, N, Cl

HORIBA Jobin Yvon 的原版离子刻蚀全息光栅保证了仪器有最大光通量,因而有最高的光效率和灵敏度

zlHDD® 检测器可进行快速而高灵敏的检测,动态范围达到10个量级

宽大的样品室方便各类样品的加载

功能强大的QUANTUMT XP软件可以多种格式灵活方便的输出检测报告

激光指点器(CenterLite laser pointer,zl申请中)可用于精确加载样品

HORIBA Jobin Yvon独有的单色仪(选配件)可极大的提高仪器的灵活性,可同时测定N+1个元素




【技术特点对用户带来的好处】-- HORIBA GD Profiler 2射频辉光放电光谱仪


【典型应用举例】-- HORIBA GD Profiler 2射频辉光放电光谱仪

【产品所获奖项】-- HORIBA GD Profiler 2射频辉光放电光谱仪


采购单位名称采购时间购台数应用领域

河北钢铁技术研究院

2011/11/011地矿/钢铁/有色金属

复旦大学

2012/12/171电子/电器/半导体

华北理工大学

2014/11/121其他

中铝科学技术研究院

2015/07/231地矿/钢铁/有色金属

厦门三安光电科技有限公司

2016/05/311电子/电器/半导体

大同精密金属(苏州)有限公司

2016/06/241地矿/钢铁/有色金属

汕头大学

2016/08/101其他

中国科学院兰州化学物理研究所

2017/09/271其他

清华大学

2017/07/241其他





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电话:400-6699-117 转6216

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