Helios G4 HX 等离子聚焦离子束 (FIB) 系统用于半导体行业
tel: 400-6699-117 转 8899赛默飞扫描电镜SEM, 专为解决各种高级半导体失效分析实验室面临的挑战而设计 Helios G4 HX 取代获得极大成功的 Helios 460......
在线客服 
产品型号：Helios G4 HX
品牌：赛默飞
产品产地：荷兰
产品类型：进口
原制造商：赛默飞/FEI
状态：在售
厂商指导价格： 1~8000000元[人民币]
上市时间： 2015-11-02
英文名称：FIB system for semiconductor
优点：专为解决各种高级半导体失效分析实验室面临的挑战而设计 Helios G4 HX 取代获得极大成功的 Helios 460HP，成为业内通量zei高的专用透射电子显微镜 (TEM) 片层样品制备平台。
参考成交价格： 1~8000000元[人民币]
仪器导购
扫描电镜SEM
其他推荐
厂家资料
地址：上海市浦东新区张江高科技园区盛夏路399号8号楼
电话：400-6699-117 转 8899
经销商
|
除厂家/中国总经销商外，我们找不到 Helios G4 HX 等离子聚焦离子束 (FIB) 系统用于半导体行业 的一般经销商信息，有可能该产品在中国没有其它经销商。
如果您是，请告诉我们，我们的邮件地址是：sales@antpedia.net 请说明: 1.产品名称 2.公司介绍 3.联系方式 |
售后服务
登记我会维修/培训/做方法
如果您是一名工程师或者专业维修科学 仪器的服务商，都可参与登记，我们的平台 会为您的服务精确的定位并展示。
产品调查
查看标准
- GB/T 38783-2020 贵金属复合材料覆层厚度的扫描电镜测定方法
- T/BSPT 002-2018 微纳加工 离子束辐照应变诱导三维纳米结构与器件的加工方法
- SY/T 7410.2-2020 岩石三维孔隙结构测定方法 第2部分：聚焦离子束切片法
- GB/T 42106-2022 纳米技术 三维纳米结构与器件的加工方法 离子束辐照诱导应变法
- GB/T 30703-2014 微束分析 电子背散射衍射取向分析方法导则
- GB/T 23414-2009 微束分析.扫描电子显微术.术语
- GB/T 19501-2013 微束分析 电子背散射衍射分析方法通则
- 18/30319114 DC BS ISO 20171 微束分析 扫描电子显微镜 用于扫描电子显微镜（TIFF/SEM）的标记图像文件格式
- GB/T 40300-2021 微束分析 分析电子显微学 术语
- GB/T 27788-2020 微束分析 扫描电镜 图像放大倍率校准导则
