中国科学院强激光材料重点实验室
400-6699-117转1000
仪器设备与工作环境
实验室目前的仪器设备已基本满足强激光与物质相互作用、激光损伤和强激光材料（包括玻璃、晶体、薄膜）的研究，有力的支撑科研工作，主要有：
1． 材料制备：
单晶炉，出直型精确管状炉，精密退火炉、恒温－低湿玻璃熔炉、高真空磁控溅射系统、Veeco Spector全自动双离子束溅射光学镀膜机、Leybold电子束蒸发镀膜机，以及国产的真空室直径450mm～1.8m真空镀膜机、半连续熔炼系统（自制）等。
2． 材料性能测试：
高/低真空扫描电镜、氪和混合气体离子激光器、线性定位平台系统、XY纳米定位系统、Lambda-1050紫外/可见/近红外分光光度计、NKD-7000光学常数测量仪、RS0/200-XP激光平面干涉仪、红外光谱仪、激光损耗测量仪、综合热分析仪、高温粘度计、高温热膨胀仪、玻璃条纹检查仪、双折射偏光仪、荧光寿命测试仪、荧光光谱仪、V棱镜折射率仪。自行研制建立了材料激光损伤测试、小光斑扫描激光预处理、高灵敏度光热效应弱吸收测量、总积分散射测量等一系列在国内外独具特色的强激光材料专用性能检测系统，并且针对强激光装置应用，正在建设激光薄膜与材料性能的综合检测平台。
3． 材料成分结构分析：
ICP等离子发光光谱仪、SEM、AFM、拉曼光谱仪等材料成份和结构测试仪器。
实验室主要仪器设备
VEECO镀膜机
设备名称
VEECO镀膜机
用途说明
该镀膜机的引进将加快对超低损耗薄膜、高损伤阈值薄膜、紫外薄膜及光资讯薄膜等领域的研究进程。
联系电话
69918468
管理人员
易葵
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干涉仪
设备名称
干涉仪
用途说明
用于精密测量光学平面度，对于干涉条纹可目视、测量读数、照相留存记录。
联系电话
69918462
管理人员
邵淑英
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弱吸收测量仪
设备名称
弱吸收测量仪
用途说明
用于测量光学材料的弱光吸收系数及测量光学薄膜微弱吸收的实验装置
联系电话
69918643
管理人员
晋云霞
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Leybold 1100 高真空镀膜机
设备名称
Leybold 1100 高真空镀膜机
用途说明
可以进行各类高性能薄膜制备
购入时间
2008年
性能指标
极限真空： 5.0×10-5Pa，烘烤温度：300度；
两把电子枪（一把对应于环形坩埚，另一把对应于8穴位坩埚），可以进行Ta2O5，TiO2, HfO2 SiO2 MgF2等氧化物及氟化物材料沉积。一个APS离子源，可以进行基片清洗及离子辅助镀膜
联系电话
69918468
管理人员
朱美萍
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原子力显微镜
设备名称
原子力显微镜
用途说明
可用来测量直径可达200毫米的半导体硅片、刻蚀掩膜、磁介质、CD/DVD、生物材料、光学材料和其它样品的表面特性，如形貌、粘弹性、摩擦力、吸附力和磁/电场分布等等。
购入时间
2008年
性能指标
最大成像范围120×120×5μm3;
最高分辨率: 横向0.1nm, 纵向0.01nm;
样品尺寸: 直径<=200mm; 厚度<=12mm
噪声水平：均方根在垂直（Z）方向上小于0.5A
联系电话
69918464
管理人员
肖祁陵
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光学轮廓仪器
设备名称
光学轮廓仪
用途说明
可对表面进行快速、重复性高、高分辨率的三维测量，测量范围可从亚纳米级粗糙度到毫米级的台阶高度。
购入时间
2008年
性能指标
垂直测量范围0.1nm~1nm
垂直分辨率<1ÅRa
RMS重现性0.01nm
反射率范围1%~100%
联系电话
69918464
管理人员
肖祁陵
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TDR(L)-J50A型单晶炉
设备名称
TDR(L)-J50A型单晶炉
性能指标
加热电源
380VAC±5%50HZ
变压器容量
30KVA
电极中心距
400mm
冷炉极限真度
6.67×10－2pa
籽晶杆慢升
0.1～10mm／h
籽晶杆快升
手动
籽晶杆转速
1～50rpm
籽晶杆炉内行程
400mm
坩埚杆炉内行程
100mm
主机重量
约1500kg
冷却水压
0.13～0.18MPa
充气压力
～0.08MPa
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日本生产液相外延炉JAP-MTF-2485
设备名称
日本生产液相外延炉JAP-MTF-2485
性能指标
日本Motoyama 公司制造，炉子由控制柜、主炉、退火炉三部分组成。主要可以用于单晶薄膜的生长，如化学计量比LiNbO3单晶薄膜、β-BaB2O4单晶薄膜、Ce:LuAP/Ce:YAP复合膜等的衬底夹具。其主要特点是生长工艺简单，控温精确。主要工艺参数：主炉最高炉温1200℃，退火炉最高温度1000℃，转速30~300rpm，升降杆停止精度±1mm。
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UltimaⅣ日本理学X射线衍射仪
设备名称
UltimaⅣ日本理学X射线衍射仪
主要用途
Ultima IV系列是一种高性能多功能的粉晶X射线衍射仪，可以分析的材料状态包括：粉末样品、块状样品、薄膜样品、液体样品。
性能指标
测角仪精度0.0001度，3KW高频X射线发生器，高反射率的石墨单色器。由于其采用θ-θ扫描方式，样品在测试过程中不需要旋转，因此可以用于液体样品的测试。
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