牛津仪器发布了名为PlasmaPro®
Estrelas100的硅深刻蚀技术,该技术提供了工业级的领先工艺性能,可以为微机电系统(MEMS)市场提供极为灵活的解决方案。

  考虑到研发领域的需要,PlasmaPro®
Estrelas100提供了极致的工艺灵活性。因为硬件的设计考虑到了在同一个空间内,同时实现多步刻蚀(Bosch™)和冷冻刻蚀的技术条件,所以可以刻蚀出微米和纳米级的结构。无论是光滑侧壁处理,还是高速率刻蚀,PlasmaPro®
Estrelas100都已经考虑到,无需改变反应室的硬件就可以满足微机电系统领域复杂多变的需求。

  伴随着新型微机电系统(MEMS)的发展和商业化,一些传统的器件如加速度计、陀螺仪和麦克风持续大量的被应用到各种的消费电子产品,包括显示器、汽车产品等。微机电系统可以满足需要小型化器件或传感器领域的需求。在研发领域的崭新需求包括:能量收集器、扬声器、无线射频识别技术、微型投影仪、振荡器、微电池以及自动对焦技术等等。