发文至
分享至
分享至
新帕泰克将参展9月27-29日上海IPB2011粉体展
IPB 2011 第九届国际粉体工业/散装技术展览会暨会议
时间：2011年9月27-29日
地点：上海国际展览中心
地址：上海市兴义路77号
公司展位号1211，届时将携干法激光粒度仪HELOS/RODOS(测试范围0.1-3500μm)、动态粒度粒形分析仪QICPIC(测试范围1-20000μm)、纳米激光粒度仪NANOPHOX(测试范围1-10000nm)，并有中国工程师在现场为您做专业的介绍与解答。
德国新帕泰克专利的干法粒度仪HELOS/RODOS，以其“干样干测”、“瞬时分散，瞬时测量”的优势，广泛以用于粉体行业的粒度分析与测量，具有分散效果好、测试速度快、准确性与精度高等优点。
动态粒度粒形仪QICPIC在分析粒度分布信息的基础上，提供粒形信息，为以颗粒形态为表征的行业与分析研究院提供了包括球形度、长宽比、纤维长度等更多参数的信息。
纳米粒度仪NANOPHOX使用PCCS的原理，消除多重散射的影响，测试浓度高，准确性好，同时提供稳定性分析，是分析纳米粉体的最佳选择。
仪器详细参数请参见我公司产品介绍，诚挚欢迎各界人士的莅临展位交流!
推荐
-
焦点事件
