新帕泰克将参展9月27-29日上海IPB2011粉体展

2011-9-20 09:28 来源: 德国新帕泰克有限公司苏州代表处
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  IPB 2011 第九届国际粉体工业/散装技术展览会暨会议

  时间:2011年9月27-29日

  地点:上海国际展览中心

  地址:上海市兴义路77号

  公司展位号1211,届时将携干法激光粒度仪HELOS/RODOS(测试范围0.1-3500μm)、动态粒度粒形分析仪QICPIC(测试范围1-20000μm)、纳米激光粒度仪NANOPHOX(测试范围1-10000nm),并有中国工程师在现场为您做专业的介绍与解答。

  德国新帕泰克专利的干法粒度仪HELOS/RODOS,以其“干样干测”、“瞬时分散,瞬时测量”的优势,广泛以用于粉体行业的粒度分析与测量,具有分散效果好、测试速度快、准确性与精度高等优点。

  动态粒度粒形仪QICPIC在分析粒度分布信息的基础上,提供粒形信息,为以颗粒形态为表征的行业与分析研究院提供了包括球形度、长宽比、纤维长度等更多参数的信息。

  纳米粒度仪NANOPHOX使用PCCS的原理,消除多重散射的影响,测试浓度高,准确性好,同时提供稳定性分析,是分析纳米粉体的最佳选择。

  仪器详细参数请参见我公司产品介绍,诚挚欢迎各界人士的莅临展位交流!