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2011年日立场发射扫描电镜图片大赛评选结果揭晓

2011.12.12

　　2011年11月22日，由天美公司和日立高新共同组办的“2011年日立场发射扫描电镜图片大赛”评选结果在“日立场发射扫描电镜最新技术研讨会”上揭晓，最终，上海硅酸盐研究所吴伟拍摄的“分子筛/内核为Fe3O4上SiO2纳米材料负载Ce2O3”在众多参赛作品中脱颖而出，摘得特等奖，喜获ipad一部。

　　这幅作品所用样品内核为Fe3O4的SiO2纳米球(直径100nm左右)负载了Ce2O3纳米颗粒。 SiO2与Ce2O3导电性差，尽量分散粉体减少团聚、使用4号光镧减少入射电流，同时LA5混合少量BSE信号等方法，有效减少荷电现象。作品充分体现了S-4800电镜的低加速电压优势，样品表面细节清楚，分辨率高，混入了背散射电子信号，突出了成分差异。

　　获得本次大赛特等奖作品“分子筛/内核为Fe3O4上SiO2纳米材料负载Ce2O3”(吴伟拍摄) 此次大赛是由天美公司和日立高新领导及工程师组成评委会，经过激烈讨论，严格选拔，最终选出20余幅参赛作品作为入围作品，并在2011年11月22日举办的“日立场发射扫描电镜最新技术研讨会”上由参会专家及用户代表投票选出图片所获奖项，除一等奖外，另评出给力奖2名，分别是微电子所余嘉晗拍摄的金属栅刻蚀以及高能所田甘/周亮君的艺术感强的图片，优秀奖2名，分别是安徽大学林中清的大工作距离高分辨率的磁性样品/Al2O3模板图片和昆明植物所的任宗昕老师拍摄的南瓜花粉。贡献奖15名，分别是：北京师范大学李永良、广州能源所苏丽芬、中国石油大学(华东)李彦鹏、四川大学史进春、苏州纳米所张琰/黄凯、河北师范大学李纪标、南京工业大学黄小健、厦门大学吴元菲、复旦大学曹惠、同济大学胡惠康、北京理化测试中心邓平晔、第四军医大学李艳玲、工信部第五研究所施明哲、苏州大学王思兵、以及长春光机所赵海峰。详细信息请参看“日立场发射扫描电镜摄影大赛初选作品公示”。

　　给力奖作品“金属刻栅”(余嘉晗拍摄)

　　给力奖作品“SnO2 /ZnO”(高亮君/田甘拍摄)

　　优秀奖作品“磁性样品及难拍的Al2O3模板”(林中清拍摄)

　　优秀奖作品“南瓜花粉”(任宗昕拍摄) 本次大赛从9月底发出通知，到11月4日截稿，共有70余人参赛，共收到来自全国各地的样品图片100多幅，样品种类各异，金属材料，高分子材料，石墨烯，水泥，分子筛等等。再次感谢各位老师的踊跃参与和积极投稿，我们将响应各位老师的要求，以后多举办此类活动。

天美电镜图片

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