上海光机所研制出多路并行激光直写系统

2010-12-06 14:31 来源: 中国科学院
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  11月,中科院上海光学精密机械研究所周常河研究员课题组成功研制出多路激光直写装置。该装置采用405nm的蓝光激光光源,尼康0.9数值孔径的透镜,以及自动聚焦系统,实现了25路高精度并行激光直写,刻写光斑的线宽小于600nm。相比于传统激光直写系统,该装置在刻写速度和效率方面有了很大的提高,几十倍地缩短了激光直写时间,可以快速制作大尺寸、高精度衍射光学元件。

  激光束直写技术是一种无需掩膜的光刻技术,基本工作原理是由计算机控制高精度激光束或样品扫描,在光刻胶上或光敏材料上刻写出掩膜图形。传统的激光直写装置由于受单路激光刻写的限制,效率低,时间长,只能应用于中、小尺寸光学器件的生产和制备。该装置的成功研制,有可能为中国的半导体制造及大尺寸微纳光学加工领域提供一种高性能、低成本的技术手段,同时,也将推动我国在纳米光刻,微纳光学制造等领域的进步,对于研制我国大科学工程、装置以及天文、航天、航空、印刷等行业所需要的大尺寸光学元件,起到积极的推动作用。