美国日立环球存储科技公司专家到理化所交流

2011-7-20 12:03 来源: 中国科学院
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  7月15日,应中科院低温工程学重点实验室低温材料及低温技术研究中心邀请,美国日立环球存储科技首席高级研发人员N. Shi博士到中科院理化技术研究所进行学术交流,并作了题为Technology Transfer-from Science to Product的学术报告。

  报告中,N. Shi博士介绍了目前最新的TB级硬盘垂直记录技术的理论基础和磁头制造工艺,重点讲述了从科学研究到产品制造这一过程的实现。

  报告会后,N. Shi博士与理化所相关人员进行了的讨论,并参观了低温材料及低温技术研究中心实验室,对实验工作提出了一些意见和建议。

N. Shi博士作报告

学术报告会场