牛津仪器等离子技术部是刻蚀、沉积和生长设备的领导者,近期获得位于印度班加罗尔的印度科学院(IISc)纳米电子研究中心(CEN)采购三台等离子刻蚀与沉积设备的订单。这三台System100等离子刻蚀与沉积设备将安装在该纳米电子研究中心(CEN)先进的纳米电子设备无尘室内,其中两台是PlasmaProTM System 100系列电感耦合等离子体刻蚀 ( ICP)设备,另一台是PlasmaProTM System 100系列等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备。

  System100是灵活、功能强大的等离子刻蚀和沉积工艺设备,采用真空进样室进样,可进行快速的晶片更换、采用多种工艺气体并扩大了允许的温度范围。PlasmaPro System100等离子刻蚀和沉积设备具有最大的工艺灵活性,适用于化合物半导体、光电子学、光子学、微机电系统和微流体技术, 该设备可以有很多配置,包括印度科学院所订购的电感耦合等离子体刻蚀(ICP)设备和等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备。