上海光机所13.5nm软x射线反射镜反射率最高值达到67.8%

2011-5-03 17:02 来源: 中国科学院
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  中科院强激光材料重点实验室近期在13.5nm软x射线反射镜研制方面取得重要进展,技术性能指标达到国际先进水平。经合肥国家同步辐射实验室测试,反射镜S分量反射率最高值达到67.8%(34.4°入射)。

  13.5nm软x射线多层膜反射元件与现代科学技术研究的前沿课题密切相关,在天文学、极紫外光刻、x射线激光以及同步辐射装置等方面都有重要应用。如同可见区高反射膜,软x射线反射膜也需要两种折射率差较大的材料配对,通过多层界面反射光的相干叠加增强反射率。现有可用材料均对软x射线存在吸收,使得高反射率反射镜的设计和制备存在很大难度。

  中科院强激光材料重点实验室采用超光滑Si片做基底,并进行精细表面清洗处理,使用磁控溅射技术精确控制薄膜周期厚度及结构。在合肥国家同步辐射实验室的U26光谱辐射标准与计量实验线站进行的反射率测量结果显示:运用该技术方案制备的五个Mo/Si多层膜反射镜,在34.4°入射时反射率峰值平均值达到66.9%,接近理论的最高反射率73.7%。

  该性能指标已经达到国际先进水平,最高值达67.8%,同时已具备了小批量提供性能稳定的高质量反射镜片的能力,将为我国在软x射线领域的相关研究与应用提供有力的技术保障。