11月9日上午，美国国家工程院院士、佐治亚理工学院Steve W. Chaddick讲席教授Russell
Dupuis访问中科院苏州纳米技术与纳米仿生研究所，并作题为The History and Current Status of Metalorganic
Chemical Vapor Deposition的学术报告。报告会由苏州纳米所所长杨辉研究员主持，相关科研人员和学生聆听了报告。
作为MOCVD技术的先驱者之一，Russell
Dupuis教授详细介绍了MOCVD技术的发明和发展过程，MOCVD技术对化合物半导体材料和器件发展的巨大推动，并以当年参与者的身份介绍了
GaAs/AlGaAs激光器的早期发展过程，Russell
Dupuis教授还介绍了他的研究小组在GaN基发光器件的近期研究进展。报告引起大家的广泛兴趣，大家就MOCVD技术，GaN基材料与器件与 Russell
Dupuis教授进行了深入的探讨和交流。