ASTM E995-04
螺旋电子光谱法和X射线光电光谱法中减去背景技术的标准指南

Standard Guide for Background Subtraction Techniques in Auger Electron Spectroscopy and X-ray Photoelectron Spectroscopy


标准号
ASTM E995-04
发布
2004年
发布单位
美国材料与试验协会
替代标准
ASTM E995-11
当前最新
ASTM E995-16
 
 
引用标准
ASTM E673 ASTM E996
适用范围
AES 中的背景扣除技术最初被用作增强相对较弱的俄歇信号的方法,以将其与二次和背散射电子的缓慢变化的背景区分开来。对从俄歇峰线形状获取有用信息的兴趣、对俄歇光谱更高定量准确性的关注以及数据收集技术的改进,导致了各种背景扣除技术的发展。同样,XPS 中背景扣除技术的使用主要源于对化学态(结合能值)测定的兴趣、XPS 光谱更高的定量准确性以及数据采集的改进。采集后背景扣除通常应用于 XPS 数据。概述的过程在 XPS 和 AES 中很流行。背景扣除技术的一般评论已发表(1 和 2)。3 1.1 本指南的目的是让分析人员熟悉目前使用的主要背景扣除技术及其在数据采集和操作中的应用性质。1.2本指南旨在适用于电子、X 射线和离子激发俄歇电子能谱 (AES) 和 X 射线光电子能谱 (XPS) 中的背景扣除。
1.3 本标准并不旨在解决所有安全问题,如果有的话,与其使用相关。本标准的使用者有责任在使用前建立适当的安全和健康实践并确定监管限制的适用性。

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