ASTM B799-95(2009)
用亚硫酸/SO2蒸汽测试金和钯镀层孔隙度的标准试验方法

Standard Test Method for Porosity in Gold and Palladium Coatings by Sulfurous Acid/Sulfur-Dioxide Vapor


 

 

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标准号
ASTM B799-95(2009)
发布
1995年
发布单位
美国材料与试验协会
替代标准
ASTM B799-95(2014)
当前最新
ASTM B799-95(2020)
 
 
适用范围
金涂层通常指定用于可分离电连接器和其他设备的触点。电镀金是最常用于触点的金形式,尽管它也用作镶嵌或复合金属以及接触表面上的焊件。金的固有高贵性使其能够抵抗绝缘氧化膜的形成,而绝缘氧化膜可能会干扰可靠的接触操作。钯涂层有时被指定为电触点和类似电气元件表面上金的替代品,既可以作为电沉积物,也可以作为镶嵌或包覆金属。该测试方法特别适合测定钯涂层的孔隙率,因为如果遵循指定的测试条件,所使用的反应性气氛不会侵蚀钯。相比之下,钯涂层会受到硝酸 (HNO3) 和其他强氧化剂的侵蚀,因此测试方法 B 735 不能用于确定此类涂层的孔隙率。为了使这些涂层按预期发挥作用,暴露贱金属基材和底板的涂层中的孔隙率、裂纹和其他缺陷必须最小化或不存在,除非可以在屏蔽结构中使用触点的情况来自环境的表面或对沉积物采用腐蚀抑制表面处理的地方。可以容忍的涂层中的孔隙率水平取决于底板或基板的环境的严重程度、接触装置的设计因素(例如其配合的力)、电路参数以及接触装置的接触操作的可靠性。是需要维护的。此外,当存在时,表面上的孔的位置也很重要。如果孔的数量很少并且位于配合表面的接触区域之外,则通常可以容忍它们的存在。如果能够确定接触表面上孔隙的精确位置和数量,则确定接触表面孔隙的方法是最合适的。接触面通常是弯曲的或不规则的形状,测试方法应该适合它们。此外,孔隙率测定测试的严格程度可能有所不同,从能够检测所有孔隙率的程序到仅检测高孔隙率条件的程序。本测试方法能够检测几乎所有可能参与基材或底板腐蚀反应的孔隙率或其他缺陷。该测试快速、简单且便宜。此外,它还可用于具有复杂几何形状的接触件,例如插针插座接触件(尽管对于深凹部,优选接触结构被打开以允许二氧化硫与内部重要表面反应)。特定测试所揭示的孔隙率水平与接触行为的关系必须由这些测试的使用者通过实践经验或判断来确定。因此,对于某些应用来说,涂层中没有孔隙可能是必要的,而对于其他应用来说,接触区域中的一些孔隙可能是可以接受的。该测试被认为是破坏性的,因为它通过用腐蚀产物污染表面以及通过在孔隙位置或未电镀区域的边界处削弱涂层来揭示孔隙的存在。任何接受此测试的部件均不得投入使用。该测试仅用于孔隙密度足够低的涂层的孔隙率(例如每单位面积或每次接触的孔隙数量)的定量描述,以便腐蚀部位能够很好地分离并易于解决。作为一般准则,孔密度高达约 100/cm2 即可实现。高于该值时,测试可用于孔隙率的定性检测和比较。为此,测量区域

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