在详细阐明了这5种深度剖析方法的分析原理、分析特点、溅射坑型及其在材料表面分析中的典型应用后,分析和探讨了这几类深度剖析方法在入射粒子、适合样品、可测试元素、是否可定量分析、应用领域等方面的对比情况,明确了它们在深度剖面分析领域的各自优势和不足,指出了对几种分析技术的综合运用,有时可改进单一方法的适用性和准确度。 ...
工作模式有两种:1)连续溅射式:离子溅射的同时进行AES分析; 2)间歇溅射式:离子溅射和AES分析交替进行。离子溅射深度分布分析是一种破坏性分析方法。离子的溅射过程非常复杂,不仅会改变样品表面的成分和形貌,有时还会引起元素化学价态的变化。溅射产生的表面粗糙也会大大降低深度剖析的深度分辨率。溅射时间越长,表面粗糙度越大,解决方法是旋转样品,以增加离子束的均匀性。...
通过磁控溅射在铀和氮化铀表面分别制备得到Ti薄膜,所获得薄膜的晶面取向并不一致,分析表明膜基过渡层的改变使得薄膜沉积的晶面取向变化。XPS对界面的深度剖析表明,铀表面镀Ti薄膜膜基过渡层主要成分为金属铀和氧化铀共存,而氮化铀表面镀Ti薄膜的界面只有很薄的氧化铀层,深度剖析后迅速变为氮化铀,氧化层的厚度大大减小,并且基底为氮化铀的情况下,氧的扩散难以进行,膜基结合更加有利。...
当α为90°时,XPS的采样深度最深,减小α可以获得更多的表面层信息,当α为5°时,可以使表面灵敏度提高10倍。在运用变角深度分析技术时, 必须注意下面因素的影响:(1)单晶表面的点陈衍射效应;(2)表面粗糙度的影响;(2)表面层厚度应小于10 nm。Ar离子溅射深度分析方法是一种使用最广泛的深度剖析的方法,是一种破坏性分析方法,会引起样品表面晶格的损伤,择优溅射和表面原子混合等现象。...
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