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GB/T 29056-2012 硅外延用三氯氢硅化学分析方法.硼、铝、磷、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、钼、砷和锑量的测定 电感耦合等离子体质谱法

本标准规定了用电感耦合等离子体质谱仪UCP一MS)测定硅外延用三氯氢硅(S旧Ch〉中硼、铝、磷、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、钼、砷、锑等痕量元素含量的方法。 本标准适用于硅外延用三氯氢硅〔蜀HCh〉中硼、铝、磷、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、钼、砷、锑等含量的测定。 各元素测定范围见表1。 表]测定范围〈质量分数…)/﹪0.000 000 001~0-000 002 0﹒000 000 00]N0^000 002 0.000 000 001~0.000 000 2 0﹒000 000 000 5~0,000 002 0.000 000 001N0′000 002 0.000 000 001~0-000 002 0﹒000 000 00]N0^000 002 0.000 000 000 5~O.000 000 2 0﹒000 000 001~0,000 002 0.000 000 001N0′000 002 0-000 000 000 5^〉0-000 000 2 0.000 000 001^》0-000 002 0.000 000 001N0′000 002 2 方法提要

Trichlorosilane for silicon epitaxy.Determination of boron,aluminium,phosphorus,vanadium,chrome,manganese,iron,cobalt,nickel,copper,arsenic,molybdenum and antimony content.Inductively coupled plasma mass spectrometric method