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伯东 KRI 考夫曼离子源用于大口径光学元件 KDP 晶体的溅射与刻蚀
hakuto 发表于 2020-11-09 15:45:14为了满足激光惯性约束核聚变对光学晶体磷酸二氢钾（KDP）晶体所需的面形精度、表面质量的高要求, 对降低 KDP 晶体表面粗糙度和消除 KDP 晶体表面周期性刀痕, 某厂商采用离子源产生的离子束进行KDP晶体的沉积修正抛光.&nb...
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伯东 KRI 离子源辅助蒸发沉积镀铝膜, 改善铝膜结构及耐腐蚀性
hakuto 发表于 2020-09-17 13:50:13铝膜具有电位低, 在基体上附着性好、经济实惠, 同时铝膜与铝合金构建连接的紧固件表面, 防止发生电偶腐蚀破坏铝合金结构件. 除此之外, 铝做到耐腐蚀防护膜层时, 无氢脆现象, 不会影响基体的本身性能, 并解决了与钛合...
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伯东 KRI 离子源用于辅助 5G 技术-陶瓷手机盖板镀膜
hakuto 发表于 2020-08-19 17:12:09随着5G技术的快速发展, 陶瓷将凭借它无信号屏蔽以及良好的机械性能成为5G时代最受关注的材料, 未来陶瓷的市场前景将非常广阔. 而陶瓷产品的表面处理就需要到PVD镀膜工艺. 目前, 陶瓷产品的镀膜工艺以蒸镀和溅射镀为...
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伯东 KRI 离子源成功应用于离子溅射镀膜 (IBSD)
hakuto 发表于 2020-08-18 16:01:52美国考夫曼公司Gridded Ion Sources (栅极离子源) 系列 RFCIP离子源 (射频电源式考夫曼离子源), KDC 离子源 (直流电源式考夫曼离子源) 已广泛被应用于离子溅射镀膜 (IBSD) 工艺. 离子溅射镀膜...
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一个问题
jilinian0953 发表于 2009-09-21 15:16:09interface（接口）与离子源是一回事吗？很多英文论文用interface ，而中文用离子源比较多，二者有区别吗？
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质谱——离子源
lifejourney 发表于 2009-04-23 10:02:44二、 离子源 离子源的性能决定了离子化效率，很大程度上决定了质谱仪的灵敏度。常见的离子化方式有两种：一种是样品在离子源中以气体的形式被离子化，另一种为从固体表面或溶液中溅射出带电离子。在很多情况下进样...
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质谱介绍
matrix 发表于 2008-05-10 23:59:36作者：SHL质谱法是将被测物质离子化，按离子的质荷比分离，测量各种离子谱峰的强度而实现分析目的的一种分析方法。质量是物质的固有特征之一，不同的物质有不同的质量谱——质谱，利用这一性质，可以进行定性分析（包括分子质量和...
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质谱基础--电离方式和离子源
aa_tang 发表于 2008-05-10 21:30:28质谱基础--电离方式和离子源 电离方式和离子源 1. 电轰击电离（EI） 一定能量的电子直接作用于样品分子，使其电离，且效率高，有助于质谱仪获得高灵敏度和高分辨率。有机化合物电离能为10eV左右，50-100eV时，大...
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商用液质离子源的介绍
firefox 发表于 2007-07-20 17:31:43液质联用的离子源，最早来源于ESI的诞生。ESI最早是由analytica公司做的，大约在80年代。后来各公司不断改进，形成了各个公司专利的离子源。其中，有独立专利技术的有：Finnigan、Waters、AB、安捷伦。Bruker和安捷伦是合作关...
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