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Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 用于陶瓷基片银薄膜减薄
hakuto 发表于 2021-01-08 16:05:11某陶瓷基片制造商采用伯东 Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 应用于 5G 陶瓷基片银薄膜减薄, 通过蚀刻工艺把基片涂层银薄膜刻蚀减薄, 并降低工差, 提高薄膜均匀性.Hak...
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Hakuto 离子蚀刻机 20IBE 去除印刷电路板污染物
hakuto 发表于 2020-12-02 16:51:54Hakuto 离子蚀刻机 20IBE 去除印刷电路板污染物某印刷电路板制造商采用伯东 Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 应用于刻蚀印刷电路板局部表面去除污染物. Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 技术参数 Φ4...
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Hakuto 离子蚀刻机 10IBE 应用于碲镉汞晶体电学特性研究
hakuto 发表于 2020-12-01 16:09:23Hakuto 离子蚀刻机 10IBE 应用于碲镉汞晶体电学特性研究某研究机构采用Hakuto 离子蚀刻机 10IBE 对碲镉汞晶体进行蚀刻, 并研究碲镉汞晶体蚀刻后的电学特性.Hakuto 离子蚀刻机 10IBE&n...
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Hakuto 全自动离子刻蚀机 MEL 3100 应用于集成电路制造中刻蚀
hakuto 发表于 2020-11-30 16:13:03某高端半导体制造公司, 采用Hakuto 全自动离子刻蚀机 MEL 3100运用在集成电路制造的刻蚀工艺. Hakuto 全自动离子刻蚀机 MEL 3100 技术参数:ModelMEL3100Wafer size3"~6"Wafer per...
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Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 应用于硬盘 GMR 磁头
hakuto 发表于 2020-11-26 16:21:51硬盘磁头, 是硬盘读取数据的关键部件, 磁头的好坏在很大程度上决定着硬盘盘片的存储密度. GMR 磁头的使用了磁阻效应更好的材料和多层薄膜结构, 这比以前的传统磁头和MR(Magneto Resisive)磁阻磁头更为敏感, 相对...
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Hakuto 离子蚀刻机 7.5IBE 用于刻蚀硅微机械陀螺芯片
hakuto 发表于 2020-11-24 14:43:28某芯片实验室为了解决芯片湿法刻蚀难以解决的横向腐蚀问题, 引进伯东 Hakuto 离子蚀刻机 7.5IBE 用于刻蚀硅微机械陀螺芯片.Hakuto 离子蚀刻机 7.5IBE 技术规格:真空腔1 set,&nbs...
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Hakuto 离子蚀刻机 10IBE 用于提升碳化硅微光学元件的品质
hakuto 发表于 2020-11-23 15:55:12某光学元件制造商为了优化碳化硅微光学元件, 降低碳化硅微光学元件表面粗糙度, 采用 Hakuto 离子蚀刻机 10IBE 对其进行优化.Hakuto 离子蚀刻机 10IBE技术参数:基板尺寸<...
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