上海纳腾高精度电子束曝光系统

ELS-F125是Elionix推出的世界上首款加速电压高达125KV的电子束曝光系统，其可加工线宽下限为5nm的精细图形。(以下参数基于ELS-F125)

ELS-F125具有以下优点：

l  超高书写精度

- 5 nm 线宽精度 @ 125 kV

- 1.7 nm 电子束直径&邻近效应最小化 @ 125 kV

l  高通量、均匀性好

- 超大视野书写:500um视场下10 nm线宽

- 高束流下电子束直径依然很小，高通量而不影响分辨率，2 nm 电子束直径@ 1 nA

l  界面用户友好

基于Windows系统的CAD和SEM界面:

-简单易用的图案设计功能

-易于控制的电子束条件

二、主要功能

l  主要应用

纳米器件的微结构

集成光学器件，如光栅，光子晶体等

NEMS结构，复杂精细结构

光刻掩模板，压印模板

l  技术能力

三、应用

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途