PLD脉冲激光沉积系统-SVT

美国SVT公司PLD脉冲激光沉积系统用于沉积金属薄膜，氧化物薄膜，多元素材料薄膜的脉冲激光沉积系统，可以与多种薄膜制备设备连用。凭借多年的科研与实践经验，我公司为许多科研用户独立打造了PLD-MBE连用系统，PLD-UHV Suptter连用系统等。

应用：
ZnO材料功能薄膜
STO薄膜
金属薄膜
超导薄膜
铁电功能薄膜
功能陶瓷膜

技术参数：
超高真空E-10Torr
四／六靶靶台 可公转,自转
温度加热台到1000^oC
灵活的泵组合
线形运动挡板
在线检测系统(温度,厚度)
配备高能量激光器

主要特点：
RF射频等离子源(氧,氮)
升级高真空
增加进样室
升级为Laser-MBE （L-MBE）系统
自动软件控制

提供更洁净的薄膜生长环境,完美的温度控制解决方案.

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途