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| 参考报价： | 面议 | 型号： | JBX-3050MV |
| 品牌： | 日本电子 | 产地： | 日本 |
| 关注度： | 1311 | 信息完整度： |  |
| 样本： | 典型用户： | 暂无 | |
| 价格范围 | 30万-50万 |
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JBX-3050MV 电子束光刻系统
JBX-3050MV 是用于制作45nm～32nm 节点的掩模版/中间掩模版（mask/reticle）的可变矩形电子束光刻系统。 zei先进的技术实现了高速、高精度和高可靠性。 是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统｡
产品特点：
JBX-3050MV 是用于制作45nm～32nm 节点的掩模版/中间掩模版（mask/reticle）的可变矩形电子束光刻系统。
zei先进的技术实现了高速、高精度和高可靠性。
是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统
利用步进重复式曝光的优点，结合曝光剂量调整功能及重叠曝光等功能，能支持下一代掩模版/中间掩模版（mask/reticle）图形制作所需要的多种补偿。
产品规格：
| 拼接精度 | ≦±3.8 nm |
| 套刻精度 | ≦±7 nm |
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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途
