随着半导体制造工艺朝着高密度，高集成方向的迅速发展，科技研发人员将对RTP(Rapid Thermal Processing)的加热技术更加关注。MILA-5000系列红外线加热炉具有快速加热和快速冷却的功能，无环境污染等特长，并同高精的温度控制器组合为一体。对于记忆材料和强导电体相关的RTP研究工作，MILA-5000红外线加热炉将提供更广泛的测量领域。

●用途
强诱导体薄膜的结晶化退火
注入离子后的扩散退火
半导体材料的烧成与退火条件研究
玻璃基板的均热退火
热循环试验与热冲击试验
升温脱离试验与触媒试验

●技术指标
型号                   高温型                                                       均热型
程序操作型       MILA5000-P-N                                         MILA5000-P-F
温度范围           RT～1200℃(MAX)                                   RT～800℃(MAX)
试样尺寸          20mm×20mm×2.0mmt(MAX)                20mm×20mm×2.0mmt(MAX)
温度传感器       K热电偶                                                      K热电偶
电源容量           AC200V / 4KVA                                          AC200V / 4KVA

温度升温速度快，精度高

●特长
50/sec的快速加温
式样在保护管内加热，所以气氛可选择真空，各种气体，流动气体
式样温度与程序设定温度同时显示，可完成精密的温度控制

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途