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辉光放电光谱仪
GDS500
配备CCD检测器的GDS500A辉光放电原子发射光谱仪提供了最先进的技术,专门设计用于在大多数导电固体材料的常规元素的测定。 通过使用辉光放电的方法,样品材料均......
GDS-850辉光放电光谱仪
辉光放电光谱检测方法利用低压,通过氩离子束对样品表面均匀溅射物质的非热能处理技术。溅射出的物质离开样品表面随后被原子化并在低压等离子放电区域被激发。GDS85......
GDS-850辉光放电光谱仪每次样品分析间隔的阳极自动清扫
溅射和激发的分离技术,具备宽动态范围的线性校准曲线更少的自吸和物质再沉淀现象,几乎为排它的原子谱线激发,狭窄的特征光谱线及更少的干扰,更少的校准所要求的标准样品......
GDS-850辉光放电光谱仪更少的校准所要求的标准样品
GDS850的配备提高了实验室的质量控制和研发能力,它提供了非常准确的基体分析以及成分深度剖析涂层分析和表面处理的结果。 仪器检测光谱范围从120到800纳米,......
GDS-850辉光放电光谱仪更少的自吸和物质再沉淀现象
GDS850A就是针对提高实验室进行过程控制和研究,以及研发的技术设计的。 这个型号的仪器可提供非常高的准确的元素总量分析以及对于涂层和表面处理的断面深度定量分......
GDS-850辉光放电光谱仪均匀的溅射
辉光放电光谱法采用低压,冷激发光源,材料被氩离子流均匀地从样品表面剥离溅射。 被溅射出的材料原子在远离样品表面低氩的等离子体内被激发。 GDS850的配备提高了......
GDS-850辉光放电光谱仪溅射和激发的分离技术
虽然其它的方法可以对样品表面轰击也可以做得很好,但永远做不到对分析的试样每次都能提供这样的典型烧斑。由于采用辉光放电,从表面溅射出来的样品物质非常均匀。样品分......
GDS500
低氩气消耗降低测试成本快速的基体变化最小的记忆效应,两次分析之间的自动清洗,它具有更好的性能,稳定性,准确性和精度,坚固的结构设计足以应对较差的生产环境。配备C......
GDS500
宽动态范围的线性校准,均匀样品激发改善了精度,无冶金记忆效应,配备CCD检测器的GDS500A辉光放电原子发射光谱仪提供了最先进的技术,专门设计用于在大多数导电......
GDS500
通过使用辉光放电的方法,样品材料均匀地从表面溅射。非热激发的采样过程,为一些检测困难的样品提供的技术上的支撑。用户友好软件易于使用的基于Windows的产品质量......
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