牛津仪器Ionfab300刻蚀和沉积设备

Ionfab 300 IBD

客户选择我们的离子束沉积产品是因为它们能够生产具有高质量，致密和表面光滑的沉积薄膜。离子束技术提供了一种多样的刻蚀和沉积的方法，并可在同一设备上实现， 因而提高系统的利用率。我们的设备具有灵活的硬件选项，包括直开式、单衬底传送模式和盒式对盒式模式。系统规格与实际应用紧密协调，以确保获得速率更快且重复性更好的工艺结果。

• 多模式功能

• 能够与其它等离子体刻蚀和沉积设备相集成

• 单晶圆传送模式或集群式晶圆操作

• 双束流配置

• 更低的表面薄膜粗糙度

• 更佳的批次均匀性和工艺重复性

• 精确终点监测 —— SIMS，发射光谱

Ionfab 300 IBE

离子束刻蚀的灵活性、均匀性俱佳且应用范围广。我们的设备具有灵活的硬件选项，包括直开式、单衬底传送模式和盒式对盒式模式。系统配置与实际应用紧密协调，以确保获得速率更快且重复性更好的工艺结果。

• 多模式功能

• 能够与其它等离子体刻蚀和沉积设备相集成

• 单晶圆传送模式或集群式晶圆操作

• 双束流配置

• 更低的表面薄膜粗糙度

• 更佳的批次均匀性和工艺重复性

• 精确终点监测 —— SIMS，发射光谱

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途