牛津仪器OmniGIS II气体注入系统

新产品气体注入系统OmniGIS II，具有一套单端口、气体源注入系统(GIS)。该系统可以允许用户在SEM和FIB里构建纳米结构，以达到以前所未有的精度、速度和可用性。

在扫描电镜或聚焦离子束样品室中，气体注入系统(GIS)直接在样品上引入了可控制的流动气体方案。气体与显微镜的电子束或离子束相互作用，可以在材料表面进行刻蚀或沉积。应用范围包括样品制备和纳米焊接，以及采用直写式光刻技术建立纳米结构，从而实现无掩模纳米图案。

OmniGIS II，牛津仪器的第二代气体注入系统，具有独特的特性，相比同行业的同类产品，它能使控制水平和准确性达到前所未见的高度。通气口可以自动识别气体源并快 速进行气体源更换，同时可以安装三种气体源和另外两种气体。设备采用“流通式”载体的方法能促进高效元素传送并快速处理，并且压力反馈控制会自动调整到大 范围真空室压力，以实现高压力下的快速处理或低压力下的高分辨率纳米图案成形。

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途