VTC-600-3HD-1000三靶磁控溅射仪

VTC-600-3HD-1000三靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄

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参考报价：	面议	型号：	VTC-600-3HD-1000
品牌：	沈阳科晶	产地：	辽宁
关注度：	107	信息完整度：
样本：		典型用户：	暂无

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可以做哪些实验，检测什么？可以用哪些耗材和试剂？

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发布时间：2024年01月

VTC-600-3HD-1000三靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD-1000三靶磁控溅射仪配备有三个靶枪和三个电源，一个射频电源用于非导电材料的溅射镀膜，一个直流电源用于导电材料的溅射镀膜，可选配强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比，且具有体积小便于操作的优点，且可使用的材料范围广，是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备。
1、配置三个靶枪，两个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，一个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。
2、可制备多种薄膜，应用广泛。
3、体积小，操作简便。

产品名称	VTC-600-3HD-1000双靶磁控溅射仪
产品型号	VTC-600-3HD-1000
主要参数	1、输入电源：220V/50Hz 2、溅射靶数量：3 3、腔体内径：Ø300mm 4、靶枪冷却方式：水冷 5、极限真空度：7.4E-5pa 6、真空室规格：Φ300×330 mm 7、真空系统：VRD-16机械泵 FF-100/150涡轮分子泵 8、恢复真空：系统从大气抽至5.0E-3pa≤30 min（系统短时间暴露大气） 9、充气系统：2路质量流量计（１路氩气100scc、1路氩气200scc）特殊气体可定制 10、溅射靶规格：Φ2"，厚度0.1-5mm（因靶材材质不同厚度有所不同） 11、样品台：Φ70mm//可加热（室温～1000℃）
产品规格	主机尺寸：宽900mm×深650mm×高1100mm

VTC-600-3HD-1000三靶磁控溅射仪信息由沈阳科晶自动化设备有限公司为您提供，如您想了解更多关于VTC-600-3HD-1000三靶磁控溅射仪报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。

注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途

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VTC-600-3HD-1000三靶磁控溅射仪

VTC-600-3HD-1000三靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄