VTC-600G高真空磁控溅射仪

发布时间：2024年01月

VTC-600G高真空磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600G高真空磁控溅射仪可选配多个靶枪，配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备，特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等。·可选配多个靶枪，配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜（靶枪可以根据客户需要任意调换）。
·可制备多种薄膜，应用广泛。
·体积小，操作简便。
·整机模块化设计，真空腔室、真空泵组、控制电源分体式设计，可根据用户实际需要调整。
·可根据用户实际需要选择电源，可以一个电源控制多个靶枪，也可多个电源单一控制靶枪。

产品 名称	VTC-600G高真空磁控溅射仪
产品 型号	VTC-600G
主要参数	1、结构：台式前开门结构，后置抽气系统。  2、极限真空：6.0X10-5Pa。  3、漏率：1h≤0.5Pa。  4、抽气时间大气至5.0X10-3约20分钟。  5、真空泵组：机械泵+分子泵。  6、样品台:φ140、室温-500℃、精度±1℃ （可根据实际需要提升温度） 自转5rpm-20rpm内可调。 可根据客户需求选配加装偏压功能， 以实现更高质量的镀膜。 7、加气系统：质量流量计2路。 （氩气/氮气各一路）  8、靶头与样品台中轴线夹角为34°  9、靶头数量：3个（互成120°）。 10、 靶枪冷却方式：水冷  11、靶材尺寸：φ2″，厚度0.1-5mm （因靶材材质不同厚度有所不同）
	12、产品规格： ·尺寸： 整机尺寸：700mm×852mm×1529mm；

序号	名称	数量	图片链接
1	样品台挡板	（可选）

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途