徕卡德国离子研磨仪 EM TIC 3XLeica EM TIC 3X 使用离子束制备SEM样品：EM TIC 3X三离子束研磨仪

徕卡德国离子研磨仪 EM TIC 3XLeica EM TIC 3X 使用离子束制备SEM样品：EM TIC 3X三离子束研磨仪针对不同使用环境，有着不同的操作与维护流程，点击查看操作维修手册。

如今，离子束蚀刻技术是应用最广泛的电子显微镜样品制备方 法。在蚀刻过程中，高能氩离子束轰击样品，并根据其应用领域 调整 离子束能量和切割角度。 在制备扫描电子显微镜样品时，离子束蚀刻可改善或修改样品 表面质量。 首先，离子束刻蚀能够清洁、抛光或增加表面的衬度。经离子束 处理的样品表面足以适用于各种灵敏的表面性能测试方法（如 EBSD）。 另外，离子束刻蚀也可以通过斜面切割制备样品的横截面。 徕卡EM TIC 3X是一款离子束研磨仪，用于制备扫描电子显微镜 样品。可以制备样品的横截面以及大面积表面。 样品的横截面还可以使用低能离子束再次处理。该处理过程既 可以清洗横截面，也能增强其衬度。 另外，EM TIC 3X可以通过离子束抛光工艺改进样品的机械抛光 表面。样品表面的最大离子束制备直径为25mm，最大样品直径 为38mm。 离子束抛光可以清洗、抛光样品表面，并增强其衬度，可以在一 台仪器中完成所有类型的扫描电子显微镜样品制备流程。

• 标准载物台

• 多样品载物台

• 旋转载物台

• 冷却载物台

• 真空冷传输对接台

用于制备标准样品、高产品处理，以及在低温条件下制备对高温异常敏感的样品，例如聚合物、橡胶或生物材料。




环境控制型工作流程解决方案
凭借与 Leica EM TIC 3X 配套的 VCT 对接台接口，可为易受环境影响的样品和/或低温样品提供出色的刨平工作流程，此类样品包括
•生物材料
•地质材料
•工业材料。
随后，这些样品会在惰性气体/真空/冷冻条件下，被传输至我们的镀膜系统 EM ACE600 或 EM ACE900 和/或 SEM 系统。

产品简介：
独特宽场三离子束，以垂直于样品侧面纵向轰击样品，实现高质量无应力“切割”截面，几乎适用于各种材料。还可对样品进行离子束抛光处理。

产品介绍：
可复制的结果
Leica EM TIC 3X 三离子束切割仪可制备横切面和抛光表面，用于扫描电子显微镜 (SEM)、微观结构分析 (EDS、WDS、Auger、EBSD) 和 AFM 科研工作。使用 Leica EM TIX 3X，您几乎可以在室温或冷冻条件下，对任何材料实现高品质的表面处理，尽可能显示样品近自然状态下的内部结构。

带来前所未有的便利！

对于离子研磨仪的效率来说，真正重要的是同时具备出色的品质结果和高产量。与前代版本相比，全新版本不仅切割速度提高了一倍，其独特的三离子束系统还优化了制备质量，并缩短了工作时间。一次可处理样品多达 3 个， 并可在同一个载物台上进行横切和抛光。

工作流程解决方案可安全、高效地将样品传输至后续的制备仪器或分析系统。

灵活的系统 — 随时满足您的需求
凭借可灵活选择的载物台，Leica EM TIC 3X 不仅是进行高产量处理的理想设备，还适用于委托检测的实验室。根据您的需求，可选择以下可互换的载物台对 Leica EM TIC 3X 进行个性化配置：

徕卡德国离子研磨仪 EM TIC 3XLeica EM TIC 3X 使用离子束制备SEM样品：EM TIC 3X三离子束研磨仪信息由徕卡显微系统(上海)贸易有限公司为您提供，如您想了解更多关于徕卡德国离子研磨仪 EM TIC 3XLeica EM TIC 3X 使用离子束制备SEM样品：EM TIC 3X三离子束研磨仪报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。

注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途