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VK-X3050测量头

Name: VK-X3050测量头
Brand: 基恩士
SKU: VK-X3050

价格：面议品牌：基恩士产地：日本型号：VK-X3050 样本：来电或留言获取样本 更新时间：2026-02-28 浏览量：

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参数

产地类别：进口

供应商性质：生产商

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产品简介

VK-X3050测量头是一款多功能高精度光学测量仪器，集激光共聚焦、聚焦变化、白光干涉和分光干涉四种测量原理于一体。其技术特点突出，最高综合倍率达28800倍，具备1纳米的高度分辨率与0.01纳米的白光干涉分辨率，测量精度极高。仪器搭载高速半导体激光，面测量速度可达125Hz，并配备560万像素光学观察系统，实现快速、精准的二维形貌与三维膜厚分析。该设备适用于精密制造与研发领域，在严苛环境下也能提供稳定可靠的测量解决方案。

详细介绍

图片.png

型号		VK-X3050
类型		测量头
综合倍率		42 至 28800 倍^*1
视野范围		11 至 7398 μm
测量原理		激光共聚焦、聚焦变化、白光干涉、分光干涉
激光光源波长		半导体激光 661 nm
最高激光测量速度		面：125 Hz、线：7900 Hz^*2
激光最大输出		1.0 mW
激光等级		2 类激光产品（GB7247.1）
激光受光元件		16 bit 感应光电倍增器
白色光源		白色 LED
白色光受光元件		超高精细彩色 CMOS
激光共聚焦	高度显示分辨率	1 nm
	高度重复精度 σ	10 倍：100 nm、20 倍：40 nm、50 倍：20 nm
	高度准确性	0.2+L/100 μm 以下^*3
	宽度显示分辨率	1 nm
	宽度重复精度 3σ	10 倍：400 nm、20 倍：100 nm、50 倍：50 nm
	宽度准确性	测量值 ±2% 以内^*3
聚焦变化	高度显示分辨率	1 nm
	高度重复精度 σ	5 倍：500 nm、10 倍：100 nm、 20 倍：50 nm、50 倍：30 nm
	高度准确性	0.2+L/100 μm 以下^*3
	宽度显示分辨率	1 nm
	宽度重复精度 3σ	5 倍：400 nm、10 倍：400 nm、20 倍：120 nm、 50 倍：65 nm
	宽度准确性	测量值 ±2% 以内^*3
白光干涉	高度显示分辨率	0.01 nm
	宽度显示分辨率	0.1 nm
	Surface Topography Repeatability	0.08 nm^*4
	Repeatability of RMS	0.008 nm^*4
分光干涉膜厚测量	重复精度 σ	0.1 nm^*4
	准确性	±0.6%^*4
光学观察	像素数	560 万
	转换器	6 孔电动镜头转换器
	适用于环形照明的镜头	2.5 倍、5 倍、10 倍
	光学变焦	1 至 8 倍
XY 载物台结构	手动运行范围	70 × 70 mm
	电动运行范围	100 × 100 mm
电源	电源电压	100 至 240 VAC、50/60 Hz
	消耗功率	150 VA
环境抗耐性	环境温度	+15 至 28°C
	相对湿度	20 至 80% RH（无凝结）
重量		约 13 kg
^1 23 寸显示器画面上的倍率（全屏显示时） ^2 测量模式 / 测量品质 / 镜头倍率的组合中，取最快的一组组合时。线扫描的情况下，测量间距小于 0.1 μm 时。 ^3 使用 20 倍以上的镜头测量标准样品时 ^4 基恩士规定测量环境下的代表值。