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NexION 300S ICP-MS 对光刻胶中的Si的分析
发布时间：
2020-05-26 09:18
来源：
珀金埃尔默企业管理（上海）有限公司
| 领域： | 橡胶,涂料,电子/电器/半导体,高分子材料 | ||
| 样品： | 光刻胶 | 项目： | Si |
| 方案文件名 | 下载 |
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NexION 300S ICP-MS 对光刻胶中的Si的分析 |
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使用ICP、ICP-MS分析时存在光学干扰，而仪器的结构又决定了Si的检出限比其他元素更高，所以为了分析低浓度的Si，必须去除光学干扰或更换仪器进样系统 ( 雾室、雾化器、中心管、炬管 )。
本实验的目的是利用NexION 的 DRC模式确定分析Si的最佳条件。
