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毕克气体仪器贸易（上海）有限公司（Peak Scientific)
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| 参考报价： | 面议 | 型号： | Precision H2 Trace 250 |
| 品牌： | 毕克 | 产地： | 英国 |
| 关注度： | 969 | 信息完整度： |  |
| 样本： | 典型用户： | 暂无 | |
| 供应商性质 | 生产商 | 产地类别 | 进口 |
| 输出压力 | 100psi/6.9bar | 输出流量 | 250cc/min |
| 氢气纯度 | 99.99999% *以氧含量计算（经NPL英国国家物理实验室验证） |
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在半导体行业中，每个工艺流程中引入的杂质污染，都有可能造成半导体器件缺陷。
半导体器件的整个制造过程中会用到多种化学品，例如过氧化氢（H2O2）、盐酸（HCl）、硫酸（H2SO4）等，进行清洗和蚀刻。
作为强氧化剂，可用于清洗硅片、去除光刻 随着半导体器件性能的持续提高，对杂质的控制要求也更加严格，所用化学品中的痕量的杂质会影响最终产品的性能和产量。国际半导体设备与材料产业协会 (SEMI) 发布了有关高纯试剂性能指标的标准, 规定绝大多数杂质元素的含量不超过 10 ppt。过氧化氢 硝酸和氢氟酸混合物 混合物用于蚀刻单晶硅和多晶硅 硫酸与过氧化氢的混合物 可用于晶圆加工过程的清洗 盐酸 用于去除硅片表面的有机和金属残留等杂质
所以，制造半导体器件时，需要对清洗和蚀刻硅片过程中使用的化学品中的痕量污染物进行常规监测，必须尽可能地将痕量污染控制在最低浓度，ICP-MS 就是普遍采用的一种监测工具。
Precision Hydrogen Trace氢气发生器主要为GC载气而设计，也可用做FID和FPD等检测器的燃烧气。一台发生器可同时为多台GC提供气源。
Precision Hydrogen Trace氢气发生器采用质子交换膜技术，电解去离子高纯水制氢气，同时采用变压吸附和分子筛技术有效去除水分，产生超高纯、痕量级的氢气，为使用氢气作GC载气提供安全、可靠、便捷的氢气解决方案。
同时Precision Hydrogen Trace氢气发生器具有诸多强大可靠的安全特性和设置，保证了用气无忧，是相比钢瓶更安全、可靠而且方便的供气方案。
为何选择Precision系列：
模块化系统为气相色谱提供了一种供气解决方案，非常适合您的实验室应用
节省空间的堆叠式设计，可充分利用实验室的空间
产品组合可单独使用，也可满足多个气相色谱应用
避免了使用气罐带来的不便，无需过多转接，不再有供给问题，必然更为安全
整个寿命周期内，所需的维护非常少
长期的成本稳定性
Precision 系统只采用具有良好安全和可靠性记录的技术
现代风格的指示灯用于显示机器的状态
利用低温等离子体和碰撞/反应池等方法可以解决这一背景干扰的问题。
针对ICP-MS开发的碰撞/反应池，能够通过化学反应去除特定干扰，使一些分析难题得以解决。
在反应池中，氢气 (H2 ) 和氧气 (O2 )常被用作反应气。
分析物或干扰物在反应池中与某一反应气发生反应，生成一个新质量数的产物离子，通过这种质量转移或者原位质量的方法，避开原质量数的干扰。
Peak Precision H2 Trace 250氢气发生器 用于半导体行业的ICP-MS分析信息由毕克气体仪器贸易（上海）有限公司（Peak Scientific)为您提供，如您想了解更多关于Peak Precision H2 Trace 250氢气发生器 用于半导体行业的ICP-MS分析报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。
注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途
